釉料制备及施釉.ppt

§10.2 釉的组成与配方计算 一、釉用原料的分类 按照各成分在釉中所起的作用： 1.玻璃形成剂（网络形成剂） 2.助熔剂 3.乳浊剂 4.着色剂 5.其它辅助剂 第29页，共77页。 1. 玻璃形成剂： 玻璃相―釉层的主要物相　 网络形成体　　1）氧离子场强要大　（阳离子电荷与其离子半径平方之比）一般来说，电荷较高，离子半径较小的阳离子及其化合物是玻璃网络形成剂　　SiO2-硅酸盐玻璃　　B2O3 P2O5　　2)氧化物的化学键键强要大，单键强度（化合物分解能与阳离子配位数之比）＞335KJ/mol　　3）极性共价键－离子键向共价键过渡的氧化物易形成玻璃　　既具有离子键，易改变键角形成不对称变形的趋势－－远程无序又具有共价键的方向性与饱和性，不易改变键角与键长的倾向――远程有序　　4）熔体的结构：　 熔体中阳离子团聚合程度大，形成玻璃倾向大，因高聚合的阳离子团难以位移和重排，结晶激活能大，不易组成晶体，阳离子团的对称性低，也容易形成玻璃玻璃。 第30页，共77页。 2.助熔剂－网络变性体 　　单键强度＜251KJ/mol 不能单独形成玻璃，一般处于玻璃网络之外，所以又称为网络外体。主要有：Li2O、Na2O、K2O、PbO、CaO、MgO等。 促进高温化学反应，加速高熔点晶体（SiO2）结构键的断裂和生成低共熔点化合物，调整釉层物理化学性质（机械强度，粘度，化学稳定性等。 第31页，共77页。 3.乳浊剂－保证釉层有足够的覆盖能力 熔体析出的晶体、气体或分散粒子折射率不同，光线散射产生乳浊。 1）悬浮乳浊剂－不溶于釉，以悬浮状态存在　　　　 　SnO2、CeO2、ZrO2、SbO3　　2) 析出式乳浊剂－冷却时从熔体中析出微晶　 　　　　 　　　ZrO2、SiO2、TiO2　　3) 胶体乳浊剂－C、S、P、F 第32页，共77页。 4.着色剂－ 釉层吸收可见光波，呈现不同颜色。 1） 有色离子着色剂：Cr3+、Mn4+、Fe3+、Co3+等　　2） 胶体离子着色剂：Cu、Au、Ag、CuCl2　　3） 晶体着色剂：一些高温形成的尖晶石型矿物 5.其它辅助剂 提高釉面质量（光泽，白度，乳浊度）、改善釉层物化性能、控制釉浆性能（釉浆悬浮性，粘附性）等。 第33页，共77页。 二、釉用原料 1.引入SiO2的原料 2.引入Al2O3，选用优质高岭土，一般粘土用量在10%以下。 3.引入Na2O、K2O的原料 主要是钾、钠长石，K2CO、Na2CO、KNO3、NaNO3等化工原料仅在某些熔块釉中部分地采用。 4.引入CaO的原料。石灰石，方解石、大理石等碳酸盐。 5.引入MgO的原料，菱镁矿、白云石、滑石等，采用菱镁矿时，用量不宜超过6%，否则产生缩釉缺陷；滑石一般煅烧后的使用。 第34页，共77页。 6.引入ZnO的原料，透明釉中引入量一般控制在5%以下，由锌白引入，生锌白活性大，与水生成氢氧化锌，使釉浆稠化，所以要煅烧后使用。 7.引入PbO的原料，铅丹（Pb3O4） 铅白（碱式碳酸铅，2PbCO3·Pb(OH)） 8.引入B2O3的原料，硼酸H3BO3、硼砂（Na2B4O7）。 第35页，共77页。 三、釉料配方的设计原则? 为了确定釉料的配方，首先①要考虑釉层性能的要求，如釉面为透明或乳浊、光泽或无光、釉层硬度、热稳定性、化学稳定性及电气绝缘性能等。②掌握坯体的类型与组成、烧成工艺等。初步拟定制釉、施釉、烧釉的工艺条件。 总的原则：釉适应坯体 第36页，共77页。 1) 釉的膨胀系数应接近坯的膨胀系数，并可略小一点。 2) 釉的组成应能保证在烧成过程中与坯体形成一定厚度 的中间层。 3) 保证釉有良好的弹性和抗张强度。 4) 对普通色剂的加入能有很好的呈色效果。 5) 釉浆要有合适的工艺性能。 6) 釉必须具备良好的熔融性能，包括熔融温度、范围、及熔体性质。对一次烧成制品的釉料，要求它在坯体烧结范围内成熟；对二次烧成制品的釉料，一般釉烧温度低于素烧温度60－120℃。 第37页，共77页。 四、釉料的配方计算 （一）釉式的计算（同坯式） （二）釉料配方的计算 1. 生料釉的计算 选用的原料一般为较纯的矿物原料或化工原料，配方中不宜含有可溶性原料，釉式中保留0.05～0.10mol高岭土，以提高釉浆悬浮性、结合强度，其余Al2O3由煅烧粘土供给，以减少干燥或烧成收缩