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WT-2000PV系列是Semilab公司的多功能半导体扫描测试系统,广泛应用于光伏和半导体行业的半导体材料、硅片的质量控制(单晶硅棒和多晶硅锭去头尾),电池工艺过程质量控制,以及实验室和试验线的研发。提供了无接触、无损伤的全自动扫描测试和快速的数据处理。
本文档主要对WT-2000PV的测试原理和操作流程加以介绍。
如有问题请与我们联系,竭诚为您服务。
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电话: +86警告:WT-2000PV系列激光探头安全等级为1M级,操作时必须佩戴防护眼镜。切勿直视,以及通过镜面和放大镜等光学设备观测激光探头!
1. 简介
WT2000-PV系统作为半导体材料质量监控的可集成测试平台,广泛应用于光伏和半导体行业中对硅料、硅晶片加工和晶圆制造等各环节的监控。
WT2000-PV系统由两台工业控制计算机实现测试功能。其中一台计算机为DOS操作系统,主要负责测量数据的处理,机器动作的控制与监控,并实现与另一台计算机通讯。另一台计算机为Windows操作系统,主要负责对Wintau32测试软件的操作。
WT2000-PV系统可以在同一探头上集成多项测试功能,客户可根据需要选配不同的测试选项。
1.1 选配功能
?-PCD / 无接触微波光电导衰减法少子寿命扫描
SPV / 表面光电压法扩散长度扫描
LBIC / 电池的光诱导电流扫描,计算电池内外量子效率
Reflectance / 反射率扫描
IQE/EQE / 内/外量子效率扫描
SHR / 无接触方块电阻扫描
Eddy Current / 涡流法体电阻率扫描
Iron concentration / 无接触铁含量扫描
Bias light / 偏置光补偿选项
PN / 无接触型号测试
1.2 主要特点
可以对硅料、硅晶片加工和电池片制造等各生产环节进行监控
可以对硅锭、硅棒和电池片做全扫描
能适应低电阻率样片(锭)的测试需要
可以选加不同的表面钝化选项
自动寻找边缘,用于不同形状、尺寸的硅片(锭)测试
最大硅锭、硅棒测试尺寸可以达到500×210×210mm3
高重复性、高分辨率
能根据需要选加不同的测试功能
1.3 主要应用
材料、硅片的质量控制(单晶硅棒和多晶硅锭去头尾)
电池工艺过程质量控制
实验室和试验线的研发
2. 原理
2.1 少子寿命测试原理
少子寿命测量方法包括非平衡载流子的注入和检测两个基本方面。最常用的注入方法有光注入和电注入,而检测非平衡载流子的方法有很多,如探测电导率的变化,探测微波反射或透射信号的变化等,注入和检测方法的不同组合就形成了多种少子寿命测试方法,如:直流光电导衰减法;高频光电导衰减法;表面光电压法;微波光电导衰减法等。WT-2000PV系统采用微波光电导衰减法实现对少子寿命的测试。
微波光电导衰退法(μ-PCD,Microwave photoconductivity decay)测试少子寿命,主要包括激光注入产生电子-空穴对和微波探测信号这两个过程。904nm的激光注入(对于硅,注入深度大约为30?m)产生电子-空穴对,导致样品电导率的增加,当撤去外界光注入时,电导率随时间指数衰减,这一趋势间接反映少数载流子的衰减趋势,从而通过微波探测电导率随时间变化的趋势就可以得到少数载流子的寿
μ-PCD测得的寿命值为少子有效寿命,它会受到样品体寿命和表面寿命两个因素的影响,其关系如下式所示:
(2-1)
式中:,
τmeas为样品测得的有效寿命;τbulk为样品体寿命;τdiff为少子从样品体内扩散到表面的扩散寿命;τsurf
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