浙江省杭州市塘栖片2023-2024学年中考考前最后一卷物理试卷含解析.doc

浙江省杭州市塘栖片2023-2024学年中考考前最后一卷物理试卷

注意事项

1．考试结束后，请将本试卷和答题卡一并交回．

2．答题前，请务必将自己的姓名、准考证号用0．5毫米黑色墨水的签字笔填写在试卷及答题卡的规定位置．

3．请认真核对监考员在答题卡上所粘贴的条形码上的姓名、准考证号与本人是否相符．

4．作答选择题，必须用2B铅笔将答题卡上对应选项的方框涂满、涂黑；如需改动，请用橡皮擦干净后，再选涂其他答案．作答非选择题，必须用05毫米黑色墨水的签字笔在答题卡上的指定位置作答，在其他位置作答一律无效．

5．如需作图，须用2B铅笔绘、写清楚，线条、符号等须加黑、加粗．

一、单选题（本大题共10小题，共30分）

1．甲、乙两物体同时同地同方向开始做匀速直线运动，甲的速度大于乙的速度，它们的s-t图像为图所示a、b、c三条图线中的两条，运动5秒甲、乙间的距离大于2米，则（）

A．甲的s-t图一定为图线a B．甲的s-t图可能为图线b

C．乙的s-t图一定为图线b D．乙的s-t图可能为图线a

2．甲、乙两圆柱形容器放置在水平地面上，容器内分别盛有体积相同的同种液体。将一小球放入甲容器内，待其静止后如图所示，如果将小球从甲容器中取出并放入乙容器中，待小球静止后（无液体溢出），两容器底部受到液体压强的变化量分别为和。则关于和的大小关系，下列判断中正确的是

A．一定大于

B．可能小于

C．一定小于

D．一定等于

3．下列关于声现象说法正确的是

A．图a是街道上显示噪声等级的装置，它能控制噪声的产生

B．图b是摩托车的消音器，它能阻断噪声的传播

C．图c是利用声呐探测海深，是利用声音传递能量

D．图d是利用B超检查身体，是利用声音传递信息

4．某同学想通过实验来探究“影响滑轮组的机械效率的因素”，如图所示，并测算了各次实验装置的机械效率．关于他的实验过程，下列说法中不正确的是

A．由①②可知：滑轮组的机械效率与绳子的绕法无关

B．由②③可知：同一滑轮组提起物重越大，机械效率越低

C．在①实验中，应匀速竖直向上拉动绳子

D．为使实验的结论更具可靠性，应换用不同的装置进行多次实验归纳得出普遍规律

5．下列单色光中，属于三原色光之一的是

A．黄光 B．橙光 C．紫光 D．蓝光

6．如图所示的工具在正常使用时，属于省力杠杆的是

A．撬棒 B．筷子

C．食品夹 D．天平

7．发现电流周围存在磁场的科学家是（）

A．牛顿

B．安培

C．焦耳

D．奥斯特

8．如图所示的物态变化过程中，吸热的是

A．铁丝网上出现霜

B．草叶上出现露珠

C．屋檐下出现冰凌

D．盒中的干冰变小

9．课外活动时，小明和小华均在操场上沿直线跑道跑步训练．在某次训练中，他们通过的路程和时间变化的图像如图所示，则下列说法正确的是（）

A．两人都做匀速直线运动

B．两人都不是做匀速直线运动

C．前2s内，小华跑较快

D．全程中，小华的平均速度大于小明的平均速度

10．下列说法中正确的是

A．猎豹的速度为1.8km/min，雨燕的速度为50m/s，猎豹运动更快

B．受油机在空中加油时，必须和加油机保持相对静止

C．箭离开弓弦后，能飞行相当远的距离，是因为箭还受到向前的动力

D．卫星绕地球做匀速圆周运动，是因为卫星受到平衡力的作用

二、多选题（本大题共3小题，共12分）

11．如图所示的电路，是由两节干电池、一个开关、两只小灯泡和几根铜导线组成，小灯泡L1和L2分别标有“2.5V0.3A”、“3.8V0.3A”．当开关闭合后，小灯泡均发光，下列说法正确的是

A．干电池对外电路供电，是将化学能转化成为电能

B．电路中的电流是由正电荷定向移动形成的

C．金属导线中自由电子定向移动的方向与电流方向相反

D．流过L1的电流与流过L2电流大小相等

12．如图所示，a、b两个由不同材料制成的直柱形物体，高ha＜hb，底面积Sa＞Sb，若放在同一水平的沙面上时，它们陷入的深度相同，则下列判断正确的是

A．a的质量一定大于b的质量

B．a的质量一定小于b的质量

C．a的密度一定大于b的密度

D．a的密度一定小于b的密度

13．如图所示是小华“探究影响滑动摩擦力大小的因素”实验。铜块、木块大小和形状相同，三次实验物块分别在水平细绳拉动下，沿着水平方向做匀速直线运动，关于实验，下列说法正确的是

A．由甲、乙两图可知，滑动摩擦力大小与压力大小有关

B．甲图中，若拉动铜块的细绳与木板不水平，铜块匀速运动时，受力不平衡

C．实验过程中，木板是否水平放罝不会影响滑动摩擦力大小的测量

D．弹簧测力计通过细绳拉着物块做加速直线运动时，滑动摩擦力的测量值大于真实值

三、填空题（本大题共5小题，共10分）

14．2012年5月，日本科学家开发出制作单层硅分子薄膜技术，如图所示：在硅板表面覆盖陶瓷薄层