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现代制造工程2010年第9期 设备设计/诊断维修/再制造 ICP光源中负载匹配箱的设计’ 王超1.一,金星1,石宝松1,一,杜江3 (1中国地质大学(武汉)机械与电子信息学院,武汉430074;2中国科学院长春光学精密 机械与物理研究所,长春130033;3北京海光仪器公司,北京100016) 摘要:阐述电感耦合等离子体(InductivelyCoupledPlasma,ICP)光源中负载匹配箱的设计方案,对等离子体产生过程中 的负载阻抗变化进行深入分析。利用ADS软件对ICP光源负载阻抗的电路模型进行阻抗匹配仿真,根据仿真结果,提 出等离子体产生过程中阻抗匹配网络的控制策略和参数范围。在多次等离子体的点火实验中,成功将氩气电离,顺利产 生并稳定维持了环形球状等离子体火焰。 关键词:ICP光源;阻抗匹配;等离子体 中图分类号:TN741文献标识码:A文章编号:167l—-3133(2010)09—0132—03 ofload boxofICPsource Design matching WANG Cha01”,JINXin91,SHIBao.son91”,DUJian93 ofMechanicalElectronic of (1Faculty Information,ChinaUniversityGeoseiences, Wuhan Instituteof Mechanicsand 430074,China;2 Academy Changchun Optics,Fine Physics,Chinese of 130033,China;3 Instrument 100016,China) Sciences,ChangchunBeijingHaiguang Co.Ltd.,Beijing Abstract:Aload boxof is load characteristicin CoupledPlasma(ICP)80ureedesigned,theimpedance matchingInductively is is formation circuitmodelof networksimulatedADSsoftware plasma analyzed.The impedancematching by system,moreover simulationresult.Plasmaof control of a舱determined is strategyand船119eparametem by dischargeargongasgeneratedsmoothly andstabilizedinexperiments. words:ICP Key source;impedancematching;plasma 0 引言 等离子体的阻抗只有0.5—1.511…,为了满足产生并 在现代分析测试仪器中,ICP—MS、ICP—AES(OES)

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