ORION3100痕量氨气监测系统系统系统系统在半导体行业的应用在.pdfVIP

ORION 3100 氨气监测系统系统在半导体行业的应用在半导体行业的应用 痕量 系统系统在半导体行业的应用在半导体行业的应用 超灵敏、超灵敏、实时监测系统实时监测系统，，测量半导体行业光刻工艺无尘室痕量氨气 超灵敏超灵敏、、实时监测系统实时监测系统，，测量半导体行业光刻工艺无尘室 深紫外光刻工艺已经被证明对许多种分子级别空气污染物特别敏感，氨气和挥发酸会在整个生 产区域产生问题。抗紫外材料、长寿命过滤器的使用并没有减少连续实时空气监测系统的需求，事 实上，对空气分子污染物的监测越来越重要。ORION 3100 系统基于CRDS （腔体激光循环衰减 光谱）技术的分析仪，可以实时监测微量氨气和气态酸，保障工艺正常运转，延长空气过滤器的使 用寿命。 ETG 公司HMI （人机界面）软件允许实时监测和控制氨气、氨络物和VOC ，样气从不同地点 取样而来。这个软件专门为半导体行业设计，主要用于深紫外光刻工艺。该软件也可以灵活组态， 适用于其它工业或实验室现场，系统硬件则是由一个或多个CRDS 和/或µVOC-CAM 分析仪以及 多通道采样系统组成。该软件建立在Windows 操作系统之上，具有交互控制和报警，数据采集， 历史数据趋势记录和基本测量等功能。 特点特点 特特点点 首先阻止杂质粒子和烟雾首先阻止杂质粒子和烟雾 首先阻止杂质粒子和烟雾首先阻止杂质粒子和烟雾 随着半导体制造工艺越来越精密复杂，对生产过程的和成品率的控制也越来越精细化。尤其是 现在的光刻工艺，需要严格的环境空气监控。痕量氨气的监测在光刻工艺非常重要，因为微量氨气 就会产生烟雾，有可能在暴露的晶片表面生成杂质颗粒或在内部形成结晶。常规的检测方法很难测 量如此超低浓度的氨气，更无法做到实时测量。ETG 公司ORION 3100 系统基于CRDS （腔体激 光循环衰减光谱）技术的分析仪专门为此而设计，可以实时测量ppb 级浓度的氨气。 ORION 3100 系统与基于GC-FID （带火焰离子探测器气相色谱）技术分析仪的µ-VOC 系统 相结合，可测量氨气、氨络物、挥发酸和 VOC ，可以监测最多 16 个采样点，是半导体行业无尘 室空气分子污染物监控的强大工具。 实时测量实时测量 实时测量实时测量 ORION 3100 系统对无尘室环境空气监测具有非常好的实时性，氨气浓度读数每5 秒刷新一 次。 0.1ppb 的灵敏度的灵敏度 的灵敏度的灵敏度 虽然ORION 3100 系统非常紧凑，但采用了非常独特的腔体激光循环衰减光谱测量技术，其 等效光程可达数公里，所以可以达到0.1ppb 的灵敏度，它甚至可以感应到人走近系统所造成的氨 气浓度波动。 操作简便操作简便 操作简便操作简便 系统只要连接上采样管，打开电源即可运行。人机界面清晰，现场技术人员经过简单培训就 可以掌握。 运行费用低运行费用低 运行费用低运行费用低 没有气相色谱仪的那些备品备件，例如运载气体和色谱柱等。维护量小，运行费用很低。 稳定性好稳定性好 稳定性好稳定性好 由于测量的是衰减时间，所以光源强度变化，以及镜子上的粘污对测量的影响都很小；再加 上没有任何可动部件，所以分析仪有着很好的长期稳定性。 CRDS （腔体（腔体激光循环衰减光谱激光循环衰减光谱）技术）技术 （（腔体腔体激激光循环衰减光谱光循环衰减光谱））技术技术 CRDS 技术是将激光射入一个内置高效反射镜组的光学腔体内，测量光逸出腔体的衰减时间， 其等效光程长达数公里。 基本测量技术描述如下基本测量技术描述如下：： 基本测量技术描述如下基本测量技术描述如下：： 调整激光和腔体到希望的频率； 激光射入腔体； 一旦腔体内的循环光能量达到一个门槛，停止射入激光； 测量腔体内激光能量衰减时间； 比较注入样气和无样气空腔体的衰减时间； 对比标定曲线，测量样气浓度。 痕量氨气分析仪 ORION 3100 性能指标性能指标 性能指标性能指标 测量目的测量目的：： 无尘室空气环境中痕量氨气 测量目的测量目的：： 测量测量原理原理：： CRDS （腔体激光循环衰减光谱）技术 测量测量原理原理：： 测量范围测量范围：：