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第 18卷 第 2期 计 算 机 技 术 与 发 展 VLJ1.18 N )‘.2
2008年 2月 COMPUTER TECFIN0I』X YANr)l】E、,E 【JOPMENq、 Fc1). 2008
TEM样品制备中离子束对样品的损伤分析
褚维群 2,郭 炜
(L.上海交通大学微 电子学院,上海 200030;
2.上海贝尔阿尔卡特有限公司,上海 201206)
摘 要:针对TEM样品制备过程中离子束对样品的损伤所产生的 “非晶化”影响进行分析和研究。在总结已有成果的基
础上,得到一些新的突破:通过可信、简便的制样方法,可以直接观察到 “非晶层”;可以量测聚焦离子束制备的可供TEM
分析的 IC硅衬底样品的极限厚度。通过一系列 自主设计的实验 ,得到如下结果:离子束的能量对 “非晶层”厚度的影像非
常大 ;“非晶层”的厚度与切割时离子束的加速电压有关 ,与离子束电流及入射角度等基本无关。
关键词:1EM样品制备 ;非晶化;聚焦离子束
中图分类号:TN405.985 文献标识码:A 文章编号:1673—629X(2008)02—0223—03
AnalysisforSamplebyFIB inTEM
CHU W ei—qunl一 GUO W eil
.
(1.MicroelectronicSchool,ShanghaiJiaotongUniversity,Shanghai200030,China;
2.AlcatelShanghaiBellCo.,Ltd.,Shanghai201206,China)
Abstract:Ithasbeenreportedthatasamplepreparedbyionbeammillinghasasandwichstructurewithamorphousofttwosidewallsand
crystalinthemiddle.Inthispaper,thesandwichstmct~eofsuch asing lecrystalTEM sampleWas studiedexpe rimentally.A novel
methodWaSinventedtopreparethesample,whichfacilitatesthedirectobservationofamorphouslayersonthesidewal1.Anotherfabrica
tionprocesswerealsoreported.Thesandwichstructurecarlbeobservde dircetlyinTEM withthissample.Getresultsviaaseriesofpre—
eiesnessandconvenientexperiments. Pionbeam energyisthedominantfactorthataffcetsthedamagedlayerthickness.届Pdarrl~ge
layre thicknessis~ tnatwithdiffreentbeam currentsnadthesampletiltangle.Buttheionbeam accelreationvoltageaffcetsit.
Keywords:TEM samplepreparation;an10rphous;focusionbeam
O 引 言 和限制
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