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物理化学学报(Wuli Huaxue Xuebao)
August A cta Phys. Chim. Sin., 2010, 26(8) :2317-2322 2317
[Article]
Cu 掺杂TiO 薄膜的摩擦学性能
2
闻柳1 万 勇1,* 王云霞2 刘长松1
(1 岛理工大学机械工程学院, 山东青岛 266033; 2 中国科学院兰州化学物理研究所,
固体润滑国家重点实验室, 兰州 730000)
摘要: 采用溶胶凝胶法在普通玻璃基底上制备了纯TiO 和Cu 掺杂的TiO (Cu TiO )纳米结构薄膜, 利用X
2 2 2
射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM) 、粉末X 射线衍射(XRD)及UMT 3 摩擦磨损试验机考察了Cu 掺杂
量对薄膜组成、结构、表面形貌及摩擦学性能的影 . 结果表明, 相比于纯TiO2 薄膜, Cu 掺杂TiO2 纳米薄膜平
整、均匀, 具有较好的耐磨减摩性能. Cu 掺杂量的多少直接影 Cu TiO2 薄膜的减摩抗磨性能, 当Cu 掺杂量为
5%(摩尔分数)时, Cu TiO 膜具有最佳的耐磨寿命和最低的摩擦系数.
2
关键词: TiO ; 溶胶凝胶; 薄膜; 铜掺杂; 摩擦学性能
2
中图分类号: O647
Tribological Properties of Cu Doped TiO Films
2
CHAO Wen Liu1 WAN Yong1,* WANG Yun Xia2 LIU Chang Song1
1
( School of Mechanical Engineering, Qingdao Technological University, Qingdao 266033, Shandong Province, P. R. China;
2State Key Laboratory of Solid Lubrication, Lanzhou Institute of Chemical Physics, Chinese Academy of Sciences,
Lanzhou 730000, P. R. Chi
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