GB/T 29505-2013硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法.pdf

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| 2013-05-09 颁布
| 2014-02-01 实施

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ICS29.045 H 80 中华人民共和国国家标准 / — GBT29505 2013 硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法 Testmethodformeasurin surfacerouhnesson lanarsurfacesofsiliconwafer g g p 2013-05-09发布 2014-02-01实施中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布中国国家标准化管理委员会 / — GBT29505 2013 目次前言 ………………………………………………………………………………………………………… Ⅲ 1 范围 ……………………………………………………………………………………………………… 1 2 规范性引用文件 ………………………………………………………………………………………… 1 3 术语和定义 ……………………………………………………………………………………………… 1 4 方法提要 ………………………………………………………………………………………………… 2 5 干扰因素 ………………………………………………………………………………………………… 3 6 仪器设备 ………………………………………………………………………………………………… 3 7 粗糙度测量步骤 ………………………………………………………………………………………… 5 8 报告 ……………………………………………………………………………………………………… 8 ( ) 附录规范性附录粗糙度测量规范和有关输出的例子 …………………………………………… A 9 ( ) ( ) 附录资料性附录有关硅片粗糙度分布的试验和模型源于附录 ………………… B SEMIM40 11 参考文献 …………………………………………………………………………………………………… 25 Ⅰ / — GBT29505 2013 前言本标准按照 / — 给出的规则起草。 GBT1.1 2009 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会( /

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