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者 第九届全国正电子谱学会议 谧
PS/PVAc,PS/PMMA共混体系的
正电子湮没谱学研究
陈宁’,2,季根忠2,孙旭东2,郑厚天2,肖慧泉2,胡幼华2,徐金城’,
郝小鹏3,王宝义3,王天民4,齐陈泽3。
l兰州大学材料系,2绍兴文理学院应用化学研究所,
3中国科学院高能物理研究所核分析技术重点实验室,4北京航空航天大学理学院
摘要:使用正电子湮没寿命谱 (PALS)技术研究了PS/PVAc,PS/PMMA这两个非极性一极
性聚合物共混体系的相容性问题。
关键词:电子湮没寿命谱 (PALS)PS/PVAc 相容性
一、引言
高分子合金是人们获得新型材料的一个重要手段 ,而共混物的相容性则是高分子合金
研究的一个重点111.PALS技术作为一种原位探针技术,可以探测到聚合物的自由体积特性,
因此,近年来己被许多材料学家用来研究聚合物共混的相容性M.l「M.Etdraphl根据量子力学
原理,将自由体积 “孔穴”视为一个具有均匀电子层厚度的无限深的球势阱,给出了自由体
积 “孔穴”半径和与。-ps寿命T3的半经验公式 (1):
T3=1/2(1-(R/Ro)十1/2[Rsln(27lR/Ro)]) (1)
式中:凡=R+AR,R为平均自由体积 “孔穴”半径,AR为球势阱内表面电子层厚度,
对于聚合物,一般采用的经验参数△R=0.1656nm。自由体积分数表示高分子材料中自由体
积在总体积中所占的比例。由于。-ps的湮没强度 ((13)与自由体积 “孔穴”的相对数量成
正比。相对自由体积分数.pp可用 ((2)式表示:
few=Vf13 (2)
Vf=3/4(二R)
聚苯乙烯 (PS),聚醋酸乙烯酷 (PVAc),聚甲基丙烯酸甲酷 (PMMA)的结构如下所
尔 :
州cll’一粉
斗CHi-}H
aCDCH3
CH3
斗\一H{}-n
COOCH3
这三类聚合物都是以C-C键为主链,不同的是PS的侧链是苯环,属于非极性高分子,而
后两种则属于极性高分子。Eun-SooParklsl等通过电子显微镜技术研究了PS/PVAc的共混
相容性问题,孔详明191等用红外光谱对PS/PMMA的共混相分离进行了探讨。我们利用PALS
技术,从自由体积的角度研究了非极性高分子PS分别与极性高分子PMMA.PVAc共混的相
究怜 _
.通讯联系人
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澄 9thNationalConferenceonPositronAnnihilation 嵘
二、试验部分
2.1试样制备
将PS以不同的质量分数配比分别与PMMA.PVAe共混,溶于乙酸乙酌溶液中,配成
3%的稀溶液。强力搅拌2h,静止24h后浇注到模具中缓慢蒸发溶剂。待溶剂蒸干后将共混
物从模具中取出,制成15mmx15nunx1.5mm的小片,每种配比的样品制成两片。
2.2正电子湮没寿命谱测试
正电子湮没测量所用的正电子源是以kapton薄膜为衬底的无载体气:源,源强约为
0.5x10Bq,寿命谱仪采用以BaFZ晶体组成的快一慢时间复合系统,系统对0Co1.18MeV
和1.33MeV榭线时间谱的时间分辨率F(WHM)约190ps,每个谱的累积计数均大于1X1护,
以保证足够的统计误差。寿命谱的解谱拟合采用Positronfit-88程序,经扣除源成分后,采用
3分量自由拟合方法,解谱得到的最长寿命以T3表示,对应的相对强度以13表示。
三、结果
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