微波辐射下含四氢吡咯环C60衍生物的合成.pdfVIP

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年第 卷 有 机 化 学 :.2 ; !# , !# !# !# 第 期, ’()*+,+ -./0*12 .3 4051*)6 ’(+7),809 , ! !$% !$$ . ; ! !$% !$$ ·研究简报· 微波辐射下含四氢吡咯环 衍生物的合成 !# 杨 文 章建民! 娄 豪 王 胜 (上海大学化学系 上海 !#$=) 摘要 以氨基酸、醛和 为原料在无溶剂条件下应用微波技术合成一系列含不同取代基的四氢吡咯环 衍生物,该反应 ’ ’ = = 在 % 7)* 内完成,产率? @ A# @ ; 关键词 ’ 四氢吡咯环衍生物,微波辐射,合成 = $%’()*+* ,- !#.’)’/0(%1/,2%//,3) 4+5 6)/+70’+7)* 81)/ 9+:/,;07) //01+0’+, ! , , , , BCD E+* FGCD -)1*HI)* J4K G1. ECD L(+*5 ( , , ) !# $%’( )* +,’-.%/ 0,$(1,$- 2(-3%.-/ 0,$(1,$- 455678 , =*’/0:’ C ,+0)+, .3 ’= H8+801(9M0.N900.2+ 0)*5 M+0)O18)O+, P+0+ ,9*8(+,)Q+M O)1 8(+ 0+168).* .3 17)*. 16)M 12M+(9M+ P)8( ’= /*M+0 7)60.P1O+ )001M)18).* 6.*M)8).*, P)8(./8 1*9 ,.2O+*8 ; R(+ 0+168).*, P+0+ 6.7N2+8+M P)8()* % 7)* )* ? @ A# @ 9)+2M, ; ,

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