LED的基本知识和工艺基础知识.docVIP

  1. 1、本文档共5页,可阅读全部内容。
  2. 2、有哪些信誉好的足球投注网站(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  5. 5、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  6. 6、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  7. 7、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  8. 8、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
LED的基本知识和工艺基础知识.doc

LED的基本知识和工艺基础知识 可以直接把电转化为光。 LED 心脏是一个半导体的 晶片 晶片的一端附在一个支架上,LED 概述  LED Light Emit Diod 发光二极管 一种固态的 半导体 器件。一端是负极,另一端连接电源的正极,使整个晶片被环氧树脂封装起来。半导体晶片由三部分组成,一部分是 P 型半导体,里面空穴占主导地位,另一端是 N 型半导体,这边主要是电子,中间通常是 1 至 5 个周期的量子阱。当电流通过导线作用于这个晶片的时候,电子和空穴就会被推向量子阱,量子阱内电子跟空穴复合,然后就会以光子的形式发出能量,这就是 LED 发光的原理。而光的波长也就是光的颜色,由形成 P-N 结的资料决定的 LED 工艺概述 LED Light Emit Diod 发光二极管,简称 LED, 一种能够将电能转化为可见光的固态的半导体器件,可以直接把电转化为光。 LED 心脏是一个半导体的晶片,晶片的一端附在一个支架上,一端是负极,另一端连接电源的正极使整个晶片被环氧树脂封装起来。半导体晶片由两部分组成,一部分是 P 型半导体,里面空穴占主导地位,另一端是 N 型半导体,这边主要是电子。但这两种半导体连接起来的时候,之间就形成一个 “ P-N 结 ” 当电流通过导线作用于这个晶片的时候,电子就会被推向 P 区, P 区里电子跟空穴复合,然后就会以光子的形式发出能量,这就是 LED 发光的原理。而光的波长也就是光的颜色,由形成 P-N 结的资料决定的一种通过控制半导体发光二极管的显示方式,用来显示文字、图形、图像、动画、行情、视频、录像信号等各种信息的显示屏幕。由于具有容易控制、低压直流驱动、组合后色彩表现丰富、使用寿命长等优点,广泛应用于城市各工程中、大屏幕显示系统。 LED 可以作为显示屏,计算机控制下,显示色彩变化万千的视频和图片。 LED 一种能够将电能转化为可见光的半导体。 LED 外延片工艺流程: 近十几年来,为了开发蓝色高亮度发光二极管,世界各地相关研究的人员无不全力投入。而商业化的产品如蓝光及绿光发光二级管 LED 及激光二级管 LD 应用无不说明了 III V 族元素所蕴藏的潜能。目前商品化 LED 之材料及其外延技术中,红色及绿色发光二极管之外延技术大多为液相外延成长法为主,而黄色、橙色发光二极管目前仍以气相外延生长法成长磷砷化镓 GaAsP 资料为主。 一般来说, GaN 生长须要很高的温度来打断 NH3 之 N-H 键解,另外一方面由动力学仿真也得知 NH3 和 MO Ga 会进行反应发生没有挥发性的副产物。 LED 外延片工艺流程如下: 衬底 - 结构设计 - 缓冲层生长 - N 型 GaN 层生长 - 多量子阱发光层生 - P 型 GaN 层生长 - 退火 - 检测(光荧光、 X 射线) - 外延片 外延片 - 设计、加工掩模版 - 光刻 - 离子刻蚀 - N 型电极(镀膜、退火、刻蚀) - P 型电极(镀膜、退火、刻蚀) - 划片 - 芯片分检、分级 具体介绍如下: 固定:将单晶硅棒固定在加工台上。 切片:将单晶硅棒切成具有精确几何尺寸的薄硅片。此过程中产生的硅粉采用水淋,发生废水和硅渣。 退火:双工位热氧化炉经氮气吹扫后,用红外加热至 300~500 ℃ ,硅片外表和氧气发生反应,使硅片外表形成二氧化硅保护层。 倒角:将退火的硅片进行修整成圆弧形,防止硅片边缘破裂及晶格缺陷产生,增加磊晶层及光阻层的平坦度。此过程中产生的硅粉采用水淋,发生废水和硅渣。 分档检测:为保证硅片的规格和质量,对其进行检测。此处会产生废品。 研磨:用磨片剂除去切片和轮磨所造的锯痕及表面损伤层,有效改善单晶硅片的曲度、平坦度与平行度,达到一个抛光过程可以处理的规格。此过程产生废磨片剂。 清洗:通过有机溶剂的溶解作用,结合超声波清洗技术去除硅片表面的有机杂质。此工序发生有机废气和废有机溶剂。 RCA 清洗:通过多道清洗去除硅片表面的颗粒物质和金属离子。 具体工艺流程如下: SPM 清洗:用 H2SO4 溶液和 H2O2 溶液按比例配成 SPM 溶液, SPM 溶液具有很强的氧化能力,可将金属氧化后溶于清洗液,并将有机污染物氧化成 CO2 和 H2O 用 SPM 清洗硅片可去除硅片表面的有机污物和部分金属。此工序会产生硫酸雾和废硫酸。 DHF 清洗:用一定浓度的氢氟酸去除硅片表面的自然氧化膜,而附着在自然氧化膜上的金属也被溶解到清洗液中,同时 DHF 抑制了氧化膜的形成。此过程发生氟化氢和废氢氟酸。 APM 清洗: APM 溶液由一定比例的 NH4OH 溶液、 H2O2 溶液组成,硅片外表由于 H2O2 氧化作用生成氧化膜(约 6nm 呈亲水性)该氧化膜又被 NH4OH 腐

文档评论(0)

docinppt + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档