光学加工过程中抛光粉参量的变化规律和其对抛光效果的影响.pdfVIP

第33卷增刊 中 国 激 光 V01．33，Suppl． 2006年3月 CHINESE oFLASERS March，2006 JOURNAL 文章编号：0258—7025(2006)Supplement．0196-04 光学加工过程中抛光粉参量的变化规律及其 对抛光效果的影响 韩敬华1’2，杨李茗2，刘民才2，刘义彬2，王忠凯1，高耀辉1，冯国英1’ ，1四川大学电子信息学院，四川成都610064、 ＼2成都精密光学工程研究中心，四川成都6100417 摘要针对超精密光滑光学元件加工过程中容易出现的粗糙度较大和表面疵病较多的现象，对传统抛光机理和抛 光过程中抛光粉的主要参量对抛光质量的影响进行了研究。研究表明：抛光表面水解层对超光滑表面的形成有重 要意义，超大、超硬抛光颗粒是超光滑表面疵病的主要原因。并根据抛光粉的主要参量随抛光时间的变化规律提 出抛光周期的概念和对抛光粉进行预处理的抛光方法，即利用抛光初期对抛光粉进行预处理、利用抛光中期进行 工件抛光的加工方法。实验结果表明用预处理的方法确实可以有效地降低抛光元件的表面粗糙度和减小表面疵 病的出现几率，提高加工的质量和效率。 关键词光学加工#预处理；抛光；表面疵病 中图分类号TQl71文献标识码A ParameterLawofthe PowderandItsInfluence Change Polishing onthe Effect the Manufacture PolishingDuring0ptical HAN Min—cai2，LIU Jing—hual，YANGLi—min92，LIU Yi-bin92， WANG Yao—huil．FENG Zhong—kail。GAO Guo—yin91 SchoolElectronicsand of InformationEngineering，Siehuan ，1 University，Chengdu，Siehuan610064，China、 2 Fine Research 610041，China ＼ ChengduOpticalEngineeringCentre，Chengd乱，Siehuan ， AbstractInviewofthe thatthe ofserious andsurfacedefects，the mechanismand phenomenaeasyappearanceroughness polishing theinfhenceofthemain onthe areresearched．Theresearchindicates：the panmeter8polishingquality superficialhydrolysislayer surface of onthe hasthevital totheformationultrasmoothsurface．Thesuperandhard ofthe