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DMDMH镀液体系中金电沉积.pdfVIP

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2011年全国电子电镀及表面处理学术交流会论文集 DMDMH镀液体系中金的电沉积 杨潇薇1,安茂忠·1,张云望2,张林2 (1化工学院,哈尔滨工业大学,哈尔滨,1500012激光聚变研究中心,中国工程物理研究院,绵阳,621900) 摘要:在以l,3.二羟甲基.5,5’一二甲基乙内酰脲(DMDMH)为配位剂的镀液体系中研究了金的 电沉积工艺和电结晶行为。循环伏安曲线测试中,在-0.88V附近出现了金的阴极还原峰,在电势正 向扫描时没有阳极氧化峰出现,说明金在该镀液中不发生阳极溶解。计时电流法研究表明,金在玻 碳电极上的电结晶过程符合三维连续成核生长模式。SEM和AFM观察表明,在DMDMH体系中获 得的镀金层比DMH体系获得的镀金层结晶更为细小,平整性更好。XRD测试表明,在两种镀液体 系中获得的镀金层都沿着(111)晶面择优生长。DMDMH镀液体系稳定性能良好。 关键词:电沉积金:DMDMH;电结晶;循环伏安;计时电流法 中图分类号:0646 文献标识码:A 文章编号:XXXX behaviorsof inbathwith Electrodepositiongold DMDMHasacomplexingagent 一 一 一 YANG Lin2 Xiao.Weil,ANMao.Zhong’1,ZHANGYun.Wan92,ZHANG SchoolofChemical and Institute ofTechnology,Harbin,150001 (1 EngineeringTechnology,Harbin ResearchCenterLaser of 1 2 of Fusion,China 900) AcademyEngineeringPhysics,Mianyang,62 Abstract and behaviorof froma bathwith Electrodepositionelectrocrystallizationgold cyanide-free as inthis resultsof DMDMH hadbeen agent investigatedpaper.The cyclicvoltammogram complexing tothe thata cathodicreductionwaveat-0.88V reductionof Au. showedsingle corresponded Au(111)to noanodic wavewasobservedonthe resultSindicated and oxidation positive scan.Chronoamperometric thatthe ofmetallicAuon carbon toathreedimensional electrodepo

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