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Ti—B4C反应路径分析.pdfVIP

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Ti—B4C反应路径分析.pdf

t 第 36卷 第 8期 金 属 学 放 V01.36 NO.8 2000 年 8 月 ACTA METALLURGICA SINICA Augh t2000 Ti—B4c反应路径分析 壁垒堑 a里4-:, 曾照强 (北京航型霸两丽j北京100095)清(华大年再再磊 工程系,北京100084) 1m 1 摘 要 通过热力学计算,结合Ti-B—C的等温截面田分别莸得了Ti,B和C在 1600℃的化学势稳定田,在满足热力学和 质量守恒条件下利用化学势从高向低扩散的原理,预测了在 1600℃等温等压时Ti和 B4C之间发生化学反应时可能存在的反应 路径 利用扩散偶宴验证实了该温度条件下的反应扩散路径为:Ti/TiC /TiB/TiB~/B4C 嚣 。文 唾 支蓊妻 …州 ANAI SiS OF REACTION PATH BETW EEN TiAND B4C G Jnnx/ [nstituteofAeronauticalMaterials.Beijing100095 { j ● MIA0 Hezhuo,zENG zhaoqiang DepartmentofMaterialsScienceandEngineering,TslnghuaUniversity:Beijing100084 Correspondent:TANGJianxin.死 (010)625666~$一5154.E-ma~l:jianxin.tang@blare Ⅱce?l M anuscriptreceived 1999一ll 29.inrevisedform 2000-02—23 ABSTRACT Thestability diagram ofchemicalpotentialforTi—B—C system at1600℃ wasca1. culatedusinga them lodynarⅡicmethodthroughTi—B—C isothermalphasediagram. Thepossible reactionpathbetweenTiandB4C at1600℃ hasbeengivenbyusingthestabilitydiargam andther- modvnaⅡcandmass—balancecondition.Thereaction diflusionpathdemonstratedbythediffusion coupleis:Ti/TiC /TiB/TiB2/B4C. KEY W 0RDS diffusion,reactionpath.Ti.B4C 为获得高性能的高温结构陶瓷近年来发展了许多先 形,这表明TiBz—TiC陶瓷基复合材料是一种具有发展前 进的制造工艺,新型材料的成形与加工工艺相继出现,对 途的高温结掏陶瓷材料.从相图上看,TiB2和TiC的结 发展高新技术和改进传统产业结构提供了良好的物质基 合热力学上一直到2500℃都是稳定的.有研究表明,在室 础.一方面,新的烧结方法不断推广和应用,如热压烧结,气 温条件下T出2一TiC复合材料的硬度 (HV)为 23GPa, 压烧结以及热等静压烧结,基本解决了陶瓷材料的致密化 此值低于纯 TiC的27,5GPa和TiB2的28.5

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