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直接法合成甲基(氢)二氯硅烷新工艺研究.pdf
维普资讯
有机硅材料及应用 1995年第 l期
直接法合成 甲基 (氢)二氯硅烷新工艺研究
8一 吉化公 ㈣ 7 乙 、f/
I
床中试所得的棍台单体中+CH*S~HCh音量15%,cH;)2s l50%,为工业化生产有机硅古氲单体开辟了新的逾径.
关 甲基(氢氯硅烷化床髓瓤 .j;,,互痨政专砖.
1 RU吾 1.1.2 直接法合成
甲基 (氢 )二氯硅烷 (CH~StHCIz.简称 MH) (1)以sj、HCl、CH3Cl为原料合成
具有活泼 的 s卜一H键、s卜_a 键,可 以进行加 Si+HCt+CH~Ct CH,S~Ctz [Ⅳ]
成、水解、醇解等反应 ,制备出用途广泛的硅油、 该反应的选择性可达 30一d0 ,工艺较成
硅树脂及硅橡胶等系列产品,是有机硅合成工 熟,适 合 于 工业 化 生产 ,但 高 氯付 产 物 如
业的重要原料 。 CH~S]CIs、HSiCI~可达 30— 40 。催化剂 较 昂
目前,MH 的来源是直接法合成 (CHs)SiCl~ 贵,防腐 问题不易解决。
(简称 Mz)所得 2~4 的副产物 ,产量低 ,售价 (2)以si、I-I:、cHa 为原料合成
高 ,已经影响了有机硅系列产 品的迅速发展。因
Si+ H:+ 3CHjCI CHaSiHCI24-
此,开展 旨在提高 甲基氯硅烷 合成中MH 的收
(CHI)~SiHCI [v]
率,即采用直接法合成有机硅含氢单体的研究
该反应原料成本相对低廉 ,CH~SiI-ICl:的选
具有重要意义。
择性 可达 30— 40 ,同 时 另 一种 含 氢 单体
1.1 传统工艺回顾
(CHs)~SiHCI也可达到上述值,只是反应尾气中
CH,StHClt的合成方式可分为直接法和间
过量的 、CH)CI不易压缩、分离、循环再用 ,工
接法 ,前者是从单质硅出发进行合成.后者是以
业化难于实现。
不同的氯硅烷为基础原料 。
在固定床和搅拌床反应器上 ,我们认真研
1.1.1 间接法合成
究了上述两种工艺,在试验 中基本重复出报道
(1)格 氏法…
的试验结果 ,并在此基础上开展 了薪工艺的研
HSICls+cHsMga呻a{ Ⅱ{a:+MgCl:[I]
究
(2)氢化法
1.2 合成工艺选择
CHsSicl_+ (CHs)2sja2+ Call:呻 CH~hqCh
(cH|)~SiCl是有机硅工业的另一种重要原
+ (CH,)~SH-ICI+CaCl:
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