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等离子喷涂设备抗干扰问题的研究.pdf
V01．27
第27卷第2期 沈阳工业大学学报 No．2
20 0f 0
05年4月 JournaIof 0 5
ShenyangUniversityTechnology Apr．2
等离子喷涂设备抗干扰问题的研究
屈伸1，王赫莹1，赵春元2
(1．沈阳工业大学材料科学与工程学院，沈阳110023；2．沈阳工程学院机械系，沈阳110036)
摘要：等离子喷涂设备的高频引弧器是对PLC系统和设备元件构成强大威胁的干扰源，阐述了
高频干扰的主要现象，探讨了解决干扰的一些措施．实验发现，等离子喷涂设备在起弧瞬间的工作
电流骤升至近千安培．另外强电场干扰也是导致设备不能稳定工作的一个因素．实验表明，将高频
电源与共用电源分离、改变控制电路以及在PLC和硅触发器电源线路上加滤波器等措施有效地抑
制了高频引弧器对PLc系统和设备元件的破坏性干扰，确保了PLc系统实时控制的稳定性和可
靠性．
关键词：等离子喷涂设备；高频干扰；PLC自动控制；稳定性；可靠性
中图分类号：TG456．2文献标识码：A
of inter￡erenceinPLC
InVestigationanti-hjgh-frequency
cOntrOlled
plasmasprayingequipment
QU
Shenl，WANGH}yin91，zHAOChun—yuan2
ofMat耐alsSd朗ceand
(1．Sch00l UniverSity 110023，CKm；2．M＆h枷cal
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AbSt阳ct：The isaseveresourceofinterferencetothe
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PLC andelectronic intothe main
system componentsintegrated equipment．Therefor，thephenomena
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concerninghigh_frequency deveIoped．As
discoVered workcurfentof went to at
from 1000A
experiments，the plasmasprayingequipmentabruptlyup
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