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PZT陶瓷中由氧空位与畴壁相互作用引起的内耗.pdf

第 卷第 期 功能材料与器件学报 $ a=@0 $/ F=0 年 月 ’## 4 ^5_‘FOI 5\ \_F.L5FOI 7O.H‘LOIQ OF8 8HaLHQ 7J2UM/ ’## 文章编号 ) * ! ##$ % ’(’ ’## # % ## + % #( ,-. 陶瓷中由氧空位与畴壁相互作用引起的内耗 ’ ’ 贺连星 李承恩 陈廷国 王志勇 晏海学 / / / / ( 中国科学院上海硅酸盐研究所,上海 ; 0 ’###(# ’0 中国科学院上海冶金研究所,上海 ’###(# ) 摘要! 采用低频倒置扭摆内耗仪对组分为 ,1 ) -2# 0 $.3# 0 4 * 54 ) ,-.$4 * 和,1 ) -2# 0 4.3# 0 $ * 54 ) ,-.4$ * % ’ ( ) 的两种陶瓷的内耗 及振动频率的平方 正比于材料的剪切模量 与温度的关系进行了 ! 6 测定。在纯三角相的 陶瓷中发现两个内耗峰。高温内耗峰 起源于材料的顺电 铁 ,-.$4 ,7 % 电相变 低温内耗峰 本质上是一个宽化的 峰,可归因于氧空位作用下的畴壁振荡弛豫。 / , 891:9 # 对纯四方相的 陶瓷,除了 和 峰外,在 与 峰之间另有内耗峰 ,这与 畴附 ,-.4$ , ,7 , ,7 ,’ ;# ( ) 近的氧空位团簇的弛豫有关 其特征可用描述强关联系统的关联态模型 描述。

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