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镀膜玻璃的基本知识 我公司采用的镀膜方法是真空阴极磁控溅射法。 其原理大致如下：镀膜真空室接地，与阳极相连，阴极装置靶材，与负极相连，磁控溅射是在溅射装置中设置磁场以控制电子运动方向，束搏电子运动轨迹，从而提高工作气体的电离几率和有效利用电子能量，提供大量的轰击靶材的正离子，形成高密度的等离子区，正离子轰击靶材产生溅射，溅射粒子的中性靶原子在基片上沉积成膜。 在我公司的镀膜产品主要分为热反射镀膜玻璃和低辐射镀膜玻璃。 由于中空线的生产加工单常会遇到镀膜产品，所以有必要在这里简单介绍一下我公司镀膜产品编号的知识 热反射镀膜玻璃 编号构成： CXX#※※（—F） C——英文字母，表示南玻集团； XX——两个英文字母，为膜系列代号； #—— 一位数字，为玻璃基片色调分类代号； ※※——两位数字，表示膜在6mm透明玻璃上的透光率； ——英文字母，表示玻璃基片来源； -F——三线专用后缀。 玻璃基片色调分类代号说明： 1——透明玻璃 2——绿色玻璃 3——灰色玻璃 4——茶色玻璃 5——蓝色玻璃 6——蓝绿色玻璃 7——天蓝色玻璃（湖水蓝） 玻璃基片来源说明： 相对应的基片 相对应的基片 相对应的基片 A AZ-湖水兰 J S SGF-白玻 B BG4-蓝绿 K T C GR8-中国绿 L U F GR2-F绿 O X G GFG-白玻 P Y H GR5-H绿 Q Z 使用举例：⑴ CSS2O8H---对应过去CSS408,表示伟光公司生产用H绿玻璃基片镀SS系列膜，膜透光率为8%。 ⑵ CSC220F-F---对应过去CSC220-F，表示三线生产用F绿玻璃基片镀SC系列膜，膜透光率为20%。 低辐射（Low-E）镀膜玻璃 2．2．1低辐射镀膜玻璃的生产方式同热反射基本类似，采用真空磁控溅射在玻璃表面经多次镀膜而成，靶材位于要镀玻璃上的上面，金属银是生产低辐射、红外高反射膜镀膜玻璃的主要材料之一，膜层数量比热反射玻璃多，最高的达到9层。生产中不可避免有掉渣造成的针孔（空洞），因掉渣造成的针孔形状不规则，掉渣的先后顺序不同，其透光表现特点也不尽相同，生产中请注意区别。 2．2．2 氧化特点 当真空磁控溅射沉积的低辐射膜暴露在大气中时，大气中的腐蚀性水蒸气和微尘离子会在其表面上凝结和俯着，从而对保护层形成电化学腐蚀并使银层氧化。氧化斑通常呈圆形状，初始约有0.1~0.3mm，随时间推移逐步扩大。但仍然是圆形状（显微镜下观察）。 被人为污染的膜氧化点，也是圆形状，但较为集中。起先是一、二点，随时间推移，点数逐步增多、扩大，构成一块大斑。显微镜观察仍然是由许多小氧化圆点组成。通常合成复合产品的孤立几个缺陷不会扩大。除非有氧化的条件存在。 3 低辐射玻璃使用和膜层的保护 低辐射镀膜玻璃的膜厚很薄，一般不超过0.1μ（微米），即仅有头发丝直径的千分之一左右，如果不妥善处置，易于被划伤。最常见的划伤发生在开箱后的切割、运输及安装搬运几个环节中。由于低辐射镀膜玻璃膜层薄、软，灰尘、砂粒及玻璃切割时的碎屑都可能成为膜划伤的致因物，因此在加工与搬运过程务必遵守低辐射镀膜玻璃操作要求。 低辐射镀膜玻璃的膜，不能像热反射镀膜玻璃那样暴露在空气中使用，即膜面必须位于中空玻璃内表面，夹层玻璃内表面。只要复合产品的结构不破坏，低辐射玻璃的光学、热学和膜的理化性能也不会改变（即原有的膜层缺陷不会扩大）。 低辐射（Low-E）镀膜玻璃编号构成： 编号构成： CEX#$—※※ C——英文字母，表示南玻集团（与热反射镀膜玻璃编号构成相同）； E——英文字母，表示Low-E镀膜玻璃； X——英文字母，为Low-E膜系列代号； #——一位数字，为玻璃基片色调分类代号（与热反射镀膜玻璃编号 构成相同）； $——一位数字，为Low-E膜反射颜色代号（如：1为中性色，2为浅灰色，3为浅蓝色等）； ※※——两位数字，表示膜在6mm透明玻璃上的透光率（与热反射镀膜玻璃编号构成相同）； ——一个英文字母，表示玻璃基片来源（与热反射镀膜玻璃编号构成相同）； 使用举例：⑴ CES11-82S对应过去CES11,表示在南玻透明玻璃基片上镀无色透明Low-E膜,膜透光率为82%。 （2） CEB23-63F对应过去CEB23,表示在F绿玻璃基片上镀浅蓝色Low-E膜,膜透光率为63%。