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液晶显示器制造工艺流程基础技术 一．工艺流程简述： 前段工位： ITO 玻璃的投入（grading） 玻璃清洗与干燥（CLEANING） 涂光刻胶（PR COAT ） 前烘烤（PREBREAK ） 曝光（DEVELOP ） 显影（MAIN CURE ） 蚀刻（ETCHING） 去膜（STRIP CLEAN ） 图检（INSP ） 清洗干燥（CLEAN ） TOP 涂布（TOP COAT ） UV 烘烤（UV CURE） 固化（MAIN CURE） 清洗（CLEAN ） 涂取向剂（PI PRINT） 固化（MAIN CURE ） 清洗（CLEAN ） 丝网印刷（SEAL/SHORT PRINTING） 烘烤（CUPING FURNACE） 喷衬垫料（SPACER SPRAY ） 对位压合 （ASSEMBLY ） 固化（SEAL MAIN CURING） 1． ITO 图形的蚀刻：（ITO 玻璃的投入到图检完成） A ． ITO 玻璃的投入：根据产品的要求，选择合适的ITO 玻璃装 入传递篮具中，要求 ITO 玻璃的规格型号符合产品要求， 切记ITO 层面一定要向上插入篮具中。 B． 玻璃的清洗与干燥： 将用清洗剂以及去离子水（DI 水）等 洗净ITO 玻璃，并用物理或者化学的方法将ITO 表面的杂 质和油污洗净，然后把水除去并干燥，保证下道工艺的加工 质量。 C ． 涂光刻胶：在ITO 玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶， 涂过光刻胶的玻璃要在一定的温度下作预处理：（如下图） 光刻胶 ITO 膜 玻璃基板 D． 前烘：在一定的温度下将涂有光刻胶的玻璃烘烤一段时间， 以使光刻胶中的溶剂挥发，增加与玻璃表面的粘附性。 Page 1 of 28 《液晶之家》— E． 曝光：用紫外光（UV ）通过预先制作好的电极图形掩模版 照射光刻胶表面，使被照光刻胶层发生反应，在涂有光刻胶 的玻璃上覆盖光刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性 曝光：（如图所示） UV 光 掩模版 光刻胶 ITO 膜 玻璃基板 F ． 显影：用显影液处理玻璃表面，将经过光照分解的光刻胶层 除去，保留未曝光部分的光刻胶层，用化学方法使受UV 光 照射部分的光刻胶溶于显影液中，显影后的玻璃要经过一定 的温度的坚膜处理。（如图：） 光刻胶 ITO 膜 玻璃基板 G ． 坚膜：将玻璃再经过一次高温处理，使光刻胶更加坚固。 H． 刻蚀：用适当的酸刻液将无光刻胶覆盖的 ITO 膜蚀掉，这 样就得到了所需要的ITO 电极图形，如图所示： 光刻胶 ITO 膜 玻璃基板 注：ITO 玻璃为（In2O3 与SnO2）的导电玻璃，此易与酸发生反 应，而用于蚀刻掉多余的ITO ，从而得到相应的拉线电极。 I ． 去膜：用高浓度的碱液（NaOH 溶液）作脱