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大连理工大学电子与科学与技术学院 微电子技术概论
第三章 集成电路制造
IC设计与加工主流程框图 硅片生产
IC设计
掩膜加工
芯片制造
测试封装
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大连理工大学电子与科学与技术学院 微电子技术概论
第三章 集成电路制造
• 3.1 硅片的生产
• 3.2 CMOS技术的主流程
• 3.3 超净间及硅片清洗
• 3.4 薄膜生长
• 3.5 光刻与腐蚀
• 3.6 扩散与离子注入
• 3.7 现代CMOS工艺流程
• 3.8 封装
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大连理工大学电子与科学与技术学院 微电子技术概论
半导体产业的发展靠两大轮子推动：
（1）芯片特征尺寸不断缩小
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大连理工大学电子与科学与技术学院 微电子技术概论
（2）晶圆尺寸不断扩大
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450mm(18英寸) 300mm(12英寸) 200mm(8英寸)
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3.1 硅片的生产
石英砂 含二氧化硅较多的砂、石。
石英砂
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3.1 硅片的生产
石英砂
冶金级硅 石英砂在电弧炉中冶炼提纯成98% 工业硅
提纯和精炼 SiO2+C→Si+CO2 ↑
电子级多晶硅锭 杂质含量小于10-10%
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大连理工大学电子与科学与技术学院 微电子技术概论
3.1 硅片的生产
石英砂
冶金级硅
提纯和精炼
高纯多晶硅锭
单晶硅
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