海德能反渗透膜清洗方法.docVIP

海德能反渗透膜污染与清洗 8.1 清洗特别提示 4、6、8和8.5英寸直径的复合聚酰胺反渗透和纳滤膜元件。 1.0ppm的游离氯需亚硫酸氢钠的用量为1.8-3.0ppm。 在反渗透膜元件的担保期内，建议每次膜元件的清洗应与海德能公司协商后进行。 在清洗溶液中，应避免使用阳离子表面活性剂。使用阳离子表面活性剂可导致膜元件无法恢复的污染。 8.2 膜污染 NOM天然有机物质、合成有机物（如：阻垢剂/分散剂，阳离子聚合电解质）、微生物（藻类、霉菌、真菌）等污染。 当反渗透系统（或装置）出现以下症状时，需要进行化学清洗或物理冲洗： ● 在正常给水压力下，产水量较正常值下降10～15%； 为维持正常的产水量，经温度校正后的给水压力增加10～15%； 产水水质降低10～15%，透盐率增加10～15%； 给水压力增加10～15%； 系统各段之间压差明显增加（可能没有仪表监测该参数）。 TDS。如果这些运行参数起伏不定，强烈建议标准化数据以确定是否有污染发生，或者在关键运行参数有变化的前提下反渗透的实际运行是否正常。海德能公司提供标准化软件ROdata.xls，可从海德能公司的网站上下载。 -1“反渗透系统故障诊断一览表”列出了常见的污染现象及其对膜性能的影响。已受污染的反渗透膜的清洗周期根据现场实际情况而定。正常的清洗周期是每3-12个月一次。如果在1个月以内清洗一次以上，就需要对反渗透预处理系统做进一步调整和改善，如追加投资，或重新进行反渗透系统设计。 -1 反渗透系统故障诊断一览表 可能发生位置 压降 给水压力 盐透过率 金属氧化物(Fe/Mn) 一段最前端膜元件 迅速增加 迅速增加 迅速增加 胶体污染(有机和无机混合物) 逐渐增加 逐渐增加 轻度增加 难溶盐类(Ca/Mg/Ba/Sr) 末段最末端膜元件 适度增加 轻度增加 一般增加 聚合硅沉积物 末段最末端膜元件 一般增加 增加 一般增加 生物污染 任何位置通常前端膜元件 明显增加 明显增加 一般增加 有机物污染(难溶NOM) 逐渐增加 增加 降低 阻垢剂污染 末段最严重 一般增加 增加 一般增加 氧化损坏 一段最严重 一般增加 降低 增加 水解损坏(超出pH范围) 一般降低 降低 增加 磨蚀损坏(颗粒物) 一般降低 降低 增加 O型圈渗漏(内连接管或适配器) (通常在两端适配器) 一般降低 迅速增加 膜元件外壳破损(由撞击造成) (运输或安装间隙) 可能降低 可能增加 膜卷突出(压差过大导致) 明显增加 明显增加 迅速增加 当膜元件仅仅是发生了轻度污染时，重要的是清洗膜元件。重度污染则会阻碍化学药剂深入渗透至污染层，影响清洗效果。如果膜元件的性能降低至正常值的30-50%，那么，欲完全恢复膜元件出厂时的初始性能是不可能的。 清洗何种污染物以及如何清洗要根据现场污染情况而进行。对于几种污染同时存在的复杂情况，清洗方法是采用低pH和高pH的清洗液交替清洗。 (冲洗)和化学清洗(药品清洗)。物理清洗(冲洗)是不改变污染物的性质，使用机械性的冲刷清除膜元件中的污染物，恢复膜元件的性能。 (物理清洗)的方式达到一定的效果，像生物污染这种对膜的吸附性强的污染物使用冲洗的方法很难达到预期效果。冲洗已经很难去除污染物时，应停止装置并采用化学清洗。为了提高化学清洗的效果，清洗前，有必要通过对污染状况进行分析，确定污染的种类(详细参照第九章相关内容)。在掌握污染物种类、成分、数量的基础上，选择合适的清洗药品是清洗成功的关键因素。 8.3 污垢成份 碳酸钙垢是一种矿物结垢。当阻垢剂/分散剂添加系统出现故障时，或是加酸pH调节系统出故障而引起给水pH增高时，碳酸钙垢有可能沉积出来。尽早地检测碳酸钙垢，对于防止膜层表面沉积的污垢结晶损伤膜元件是极为必要的。早期检测出的碳酸钙垢可由降低给水的pH值至3-5，运行1-2小时的方法去除。对于沉积时间长的碳酸钙垢，可用低pH值的柠檬酸溶液清洗去除。 硫酸盐垢是比碳酸钙垢硬很多的矿物质垢，且不易去除。硫酸盐垢可在阻垢剂/分散剂添加系统出现故障或加硫酸调节pH时沉积出来。尽早地检测硫酸盐垢对于防止膜层表面沉积的污垢结晶损伤膜元件是极为必要的。硫酸钡和硫酸锶垢较难去除，因为它们几乎在所有的清洗溶液中难以溶解，所以应特别加以注意。 磷酸钙垢在高含磷的市政污水处理中是较为常见的。通常这种垢可用酸性清洗液去除。目前 在海德能公司的RO设计软件中未包含磷酸盐垢的计算。如果在给水中磷酸盐的含量达到或大于5ppm，请与海德能公司联系。 /氢氧化物污染 /槽）的腐蚀产物，金属材料会被空气、氯、臭氧、高锰酸钾氧化，或者来自于预处理过滤系统中使用的铁或铝混凝剂。 硅胶垢去除困难，来自于可溶性硅过饱和或聚合反应。硅胶垢与硅基