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中国 电子科技集团公司第四十八研究所
M42200-2/UM 型等离子体刻蚀机
用 户 使 用 说 明 书
中国电子科技集团公司第四十八研究所
2007 年 1 月
中国 电子科技集团公司第四十八研究所
目 录
1．概述 ····························· （1）
1．1 产品特点 ························ （1）
1．2 主要用途及适用范围 ··················· （1）
1．3 品种、规格 ······················· （1）
1．4 型号的组成及其代表意义 ················· （1）
1．5 使用环境及工作条件 ··················· （1）
2．工作原理及结构特征 ····················· （2）
2．1 总体结构························ （2）
2．2 设备系统及工作原理 ·················· （2）
3．主要技术指标 ························ （3）
4．安装和调试 ·························· （3）
4．1 安装条件························ （3）
4．2 安装程序及注意事项 ·················· （4）
4．3 调试程序及注意事项 ·················· （4）
5．使用与操作 ·························· （6）
6．故障分析与排除 ······················· （6）
7．安全保护及注意事项 ····················· （7）
7．1 安全保护 ························ （7）
7．2 注意事项 ························ （7）
8．保养与维护 ·························· （8）
9．运输、储存及开箱检查 ···················· （8）
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中国 电子科技集团公司第四十八研究所
1．概述
本说明书提供有关等离子体刻蚀设备的安装、操作及维护的说明。用户必须按照
有关说明使用。
1.1 产品特点
M42200-2/UM 型等离子体刻蚀机具有占地面积小、装片容量大、生产率高等优点。
同时，还具有手动/自动功能。除装卸片要人工操作外，其余过程实现了全自动，保证
了工艺的准确性和重复性，大大地提高了产品质量。
1.2 主要用途及适用范围
该设备主要用于太阳能电池周边掺杂硅的刻蚀，也可用于半导体工艺中多晶硅、
氮化硅的刻蚀和去胶。
1.3 品种、规格
我所研制的等离子体刻蚀机有如下规格：
1） M42150-1/UM
2） M42200-1/UM
3） M42200-2/UM
1.4 型号的组成及其代表意义
M 4 2 200 — 2 / UM
企业代号（中国电子科技集团公司第四十八所）
设计顺序号
主参数（基片最大直径 200 毫米）
种类（等离子体刻蚀设备）
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