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激光诱导化学气相沉积 法制备
a—Si3N4纳米粒子研 究
了 D牛.2jL
风 雷 郑 韬 李道火
f — — — — — 一 r — — 一
(中国科学院安徽光学精密机械研究所,合肥 230031)
摘 要 路出激光化学气相沉积法制奋a—SiN.纳米粒子的 Sill。/NH /Ar体系制备,其原理方程式如下
原理和蛀验公式,在特定工艺参数下荻得平均粒径为 lOnm
左右的优 电a—SiNt纳米粒子 。红外吸收和拉 曼光谱研究表 3Sill。+4NH3 sN。+12H2十
明.a—Si,N.纳米粒子中存在 Si—N,Si~H,N—H,Si—O~Si 工艺参量与生成粉末特性关系一直是激光制粉
键.分析 了a—si。N一纳米粒子在不同的温度和气氛退戈后的 基本研究的内容。其 中激光功率密度、反应气体流
量、配比、反应压力和火焰温度等对生成粉末特性都
有一定影响。我们经过大量的理论与实践分析,获得
了激光制粉多变量匹配公式
域即迅速发展起来 。例如传统 sbN。是典型的共 Io= Iem , (1)
价无极性绝缘体,但在纳术状态下却具有强极性的 式中 。——激光入射功率;——剩余激光功率;
压电效应,且高频 电导急剧上升而倾向于导电 。纳 — — 反 应 气 体 流 速 ;—— 反 应 压 力 ;
米材料这些奇妙的物理特性对凝聚态物理和材料科 — — 激光功率密度 。
学的现有理论提出了挑战。 d: /RC( — T)/(T +T )] (∞
激光诱导化学气相沉积法 (1aserinducedchemi— 式中 ——SiH。比热 ;R——气体常数 ;T——反
ca]vapordeposition简称 LICVD)是利用反应气体 应温度 ;T——常温 。
分子对特定波长激光束的吸收而产生热解或化学反 公式(1)适台于激光气相沉积超微粉体系。但对不同
应 ,经成核生长形成超细粉末,LICVD法通常用 粉末和体系 和 d值需要修正。
CO
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