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高反射率光学薄膜的一种新设计方法.pdf
维普资讯
光 电 子 ·撒 第 11卷 第 l期 2000年 2月
JOURNALOF OPTOEIECTRONICS ·LASER Vo1．11 No．1 Feb，2000
文章编号 ：1005—0086(2000)01—0062—03
． 高反射率光学薄膜 的一种新设计方法
妞
里 ， ，周九 ，，黄黄 琼琼：。 ，％一-E-- ’W…／
，
(成都精密光学工程研究中心 ，成都 61~0~1)
行优化设计 而且谈方法能灵话有效地按 任意场强和反射率要求优化设计各种膜 系
中圈分类号 ：o484．4 1 文献标识码 ：A ’ ， u 。
An New M ethod toDesign High ReflectivityFilm
KONG Mingdong，LIRui—j|e，ZHOU Jiu—lin ，HUANG Qiong
(ChengduFineOpticalEngineeringResearchCentral，Chengdu，610041)
(South—westTechnicalPhysicsInstitute，Chengdu 610041j
(Departmentofoptoe1ectr0nics．SlchuanUniversity，Chertgdu 610064)
Abstract：In thispaperanew method whichimprovesnotonlyelectricalfield distributioninfilm layers
todecreaselossesbutalsoensuresgoodopticalreilectivityWaspresented．Thismethodappliedcharacter
matrix otopticaltilm to calculateelectricfield distribution and reflectivity．Anassessmentfunctionis
constructedtorconsideringto bothelectricaltield distribution and reflectiv[ty．Themethodcanbeused
in 0D6mizationdesignlotanyelectric{ield distribution 0Tre{lecti~ity
Keywords：electrictielddistribution；opticallosses；highretlectivityfilm
；／4堆外面 的附加堆 厚度 ，首先假 定两个条件 ；1)反
1 引言
射率 为最大 {2)两种材 料的第 1个 分界面上 的 电场 强
激光反射镜对全介质 高反膜 的反射率要求越来 度等于 下一个相似界面上 的电场强度 ，然后推 导出两
越高 (99．9％)N-a]，然而薄膜 中不可避免地存在吸 相邻界面的场强 比公式 (该公式 中有原膜堆振幅反射
收和散射
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