图案化TiO2薄膜的制备技术.pdf

第20卷第11期 化 学 进 展 V01．20No．11 2008年11月PROGRESS矾CHEMISTRYNov．．2008 图案化Ti02薄膜的制备技术* 梁 山1’2 陈 淼¨’ (I．中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室兰州730000； 2．中国科学院研究生院 北京100039) 摘 要 按图案的生成方式可分为图案的直接生成、掩膜复制法和硬质模板复制法3大类。可以通过 针尖写蚀法、电子书写蚀法、激光写蚀法、自组装法和光电化学法直接制各图案。掩膜复制法包括光刻胶法、 自组装膜法和光敏凝胶膜法等；硬质模板法也称软刻蚀技术，分为复制微模塑、转移微模塑、毛细管微模塑、 微接触印刷法、光-盖印印刷等技术。本文综述了图案化Ti02薄膜的制备技术，对每类方法的优缺点作了评 述，对今后图案化TiO：薄膜制备的研究方向提出了一些建议。 关键词 图案化7n02膜白组装 光刻胶 光敏膜 软刻蚀 微接触印刷 ofPatternedThinFilms Preparation Ti02 ChenMia01。。 如昭Shanl·2 ofSolid Instituteof (1．StateKeyLaboratoryLubrication，LanzhouChemical ofSciences， Physics，ChineseAcademy I舳zIlou ofChinese of 730000，China；2．Graduate University Academy 100039，China) Sciences，Beijing AbstractThis an article overviewofvarious of films．Itis into TiOz provides patterningmethodologies organized three of ofamask，and ofamaster．Generationof is majorsections：generationpatterns，replicationreplication paUems serial the witha electronbeamoralaser usuallyaccomplishedby techniques，includingwrittingprocessstylus，an beam， theself and the featuresonamask usedto assemblyprocess photoelectromchemistry process．Thepattemed a弛mainly of directa flux radiationor matterfroma 80ureeontoa substrate．Thismethodcan