基于Cytop的电润湿显示单元的制备.pdf

第33卷第3期 光 电 子 技 术 V01。33No．3 OPTOELECTRONIC 2013年9月 TECHNOLOGY Sept．2013 基于Cytop的电润湿显示单元的制备。 张 涵1，王建波卜+，梁学磊2”，徐庆宇3，肖长诗1’¨，周思远1 (1．武汉大学物理科学与技术学院，电子显微镜中心和人工微结构教育部重点实验室，武汉430072； 2．北京大学信息科学与技术学院，北京100871；3．东南大学物理系，南京211189； 4．南京晶奥微光电技术有限公司，南京211100) 摘 要：采用具有良好光学特性的Cytop作为绝缘疏水层，探索了电润湿显示单元器件的制 备工艺。采用了氧等离子处理的方法解决Cytop优良的疏水性与光刻工艺的不兼容性，实现了单 个显示像素的可控收缩与恢复。在此基础上制各了面积为5cmx5cm的透射式和反射式的单色 显示单元，表现出良好的显示效果，为下一步具有实用化的电润湿显示器件的制备奠定了坚实的基 础。 关键词：Cytop；电润湿；等离子体处理 中图分类号：TNl41文献标识码：A 文章编号：1005—488X(2013)03—0189—05 DeviceBasedon ElectrowettingDisplay Cytop Xuelei2’’，Xu ZhangHanl，WangJianb01。。，Liang Qingyu3，XiaoChangshil’4。’。ZhouSiyuanl (1．School and Electron andMOE ofPhysicsTechnology。Centerfor MicroscopyKeyLaboratoryof Micro—and Nano—structures，Wuhan Artificial University，Wuhan430072，CHN； 2．SchoolElectronics and of EngineeringComputerScience，PekingUniversity，Beijing100871，CHN； 3．DepartmentofPhysics，SoutheastUniversity，Na巧ing211189，CHN； AoWei 211100，CHN) 4．Jing OptoelectronicTechnologyCo．，Ltd，Na巧ing fabricated the Abstract：Electrowettingdisplay(EWD)wasbyusingcytop，which，ashy— dielectric treatmentWasusedtOsolve drophobic layer，features goodopticalproperties．Plasma the between of surfaceand contradictorysuperhydrophobicCytop lithographyprocess．Controlla— blecontractionand of EWDwas recoverysingle pixie