AFM分析磁控溅射法制备的TiO2纳米薄膜.pdf

第 卷 第 期 武 汉 化 工 学 院 学 报 )% QI3)% bQ3 年 月 )##* # c3 6SdGF EFPO3 =dJC3 /JBd3 cGF3 )##* 文章编号!##$ $%’()##*+# ##*) #$ ,-. 分析磁控溅射法制备的/01 纳米薄膜 ) 2) 林志东 刘黎明 2 武汉化工学院材料科学与工程学院 湖北 武汉 (3 2 $##%$4 北京工业大学电子信息与控制工程学院 北京 )3 2 ###))+ 摘 要 采用磁控反应溅射法 在室温条件下制备了 纳米薄膜 用原子力扫描显微镜 分析考察了 ! 2 ) 2 ( + /01 ,-. 溅射功率 溅射时真空室压力等工艺参数对薄膜结晶状态 晶粒尺寸的影响 实验结果表明 在室温下 只有溅 5 5 3 2 2 射功率大于 以上时 才能形成粒子结晶完全的纳米薄膜 随着溅射功率的增加 真空室溅射气压的降 ## 2 2 2 6 低 薄膜中 粒子尺寸显著增大 随着溅射时间的延长 薄膜厚度增加 并根据溅射薄膜的成膜机理 讨论 2 ) 4 2 3 2 /01 了实验工艺参数对薄膜微结构的影响3 关键词 磁控溅射 薄膜 ! 4 4 ) ,-. /01 中图分类号! $7$3* 文献标识码! 1 , 频源频率 最大功率 样品制备 3*’ 2 ## 2 # 引 言 .@A 6 采用高纯金属钛靶为靶材 基片材料选用 2 D BC 二氧化钛薄膜是一种在可见光区具有高透过 的石英片和 D 的氧化锡铟( + BC BC