基片温度对TiO2薄膜表面形貌和性能的影响.pdf

第24卷 第3期 材料科学与工程学报 总第101期 V01．24No．3 ofMaterials Journal ScienceEngineering Jun．2006 文章编号：1673．2812(2006)03-∞配．舛 基片温度对Ti02薄膜表面形貌和性能的影响 黄永刚1’2，陈敏2。李长敏2，张庆瑜3，黄英1 (1．中国建筑材料科学研究院特种玻璃纤维与光电功能材料研究所。北京100024； 2．大连轻工业学院材料科学与工程系。辽宁大连116034； 3．大连理工大学三束材料改性国家重点实验室及物理系。辽宁大连 116024) 测试手段，研究基片温度对薄膜表面形貌、粗糙度和表面性能的影响。结果表明，随着基片温度增加，薄膜表面粗 糙度增大，薄膜中颗粒由无定形态逐渐向定向排列的晶态转变，而薄膜结构、表面形貌和粗糙度的变化明显影响薄 膜表面性能。最后，探讨了薄膜的生长机理。 【关键词】Tiq薄膜；基片温度；原子力显微镜；表面形貌；表面性能 中图分类号：TQl71．72+4文献标识码：A InfluenceofSubstrate Temperatureon．SurfaceMorphology TitaniumThin and of OxideFilms Properties mIANG Minz，LIChang-min2，zHANG Yong-gan91，cHEN Qing-yu3，HuANGYingI (1．Instituteof GlassFiberPhotoelectricFunctionalMaterials，ChinaMaterials Special Building Academy， ofMaterialsScienceand Instituteof 100024，China；2．Department Engineering，DalianLightIndustry， Bering Dalian ofMaterialsModification andElectron 116034，China；3．State Laser，Ion KeyLaboratory by of of 116024，China) BeamsDepartmentPhysics，DalianUniversityTechnology，Dalian thinfilmswere on substratesRF andthe 【Abstract】Ti02 preparedglass by magnetronsputtering．Themorphology，theroughhess surface offilmsofdifferentsubstrate werestudiedatomicforce properties temperature by microscopy(AFM)，UV-Vis withtheincreaseofsubstrat