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光 罩护膜 沈玉芳，于洁，郭文勇 湖北省化学研究院，武汉市，430074 摘要：本论文对光罩护膜(Pel】icle)的用途、材质、制备方法、制作过程中的一些基本要求以及现今光罩护膜的生产动态进行了简 要的综述。 关键词：光罩护膜，光罩，综述 UV 使用deeppellicle护膜或抗反射涂布的氟化物而言， 1、 概述 因为膜的低表面张力很难找得到一种适合的黏胶来将 光罩护膜即光罩保护膜，用于保护光罩的洁净，防 膜黏合到框架上，因此黏胶有时会展现出差强人意的强 止微粒子或挥发性气体污染光罩表面，在光罩上下面各 度或者有限期的黏着强度； (c)使用期限——Pellicle 的使用期限起伏很大，其依赖于光罩护膜材质及晶网曝 包围一层膜(被称之为Pellicle)使之不受污染。没有 Pellicle的保护，光罩将很容易污染上微尘并形成一个失光机所使用的光源(即光源波长)、强度以及所使用的 真的影像在晶圆上，如此即产生一个瑕疵在晶片上。另 滤光器，所有使用于Pellicle的材质皆凶易于被UV光或 氧化作用而退化、或逸出气体，所以Pellicle应是有使用 外在未使用Pellicle的时期，光罩可能得需要每日清洗 及检验，结果在清洗的过程中，光罩很容易被环境污染 期限的。 或破坏，造成良率低及高报废成本。光罩Pellicle膜面 目前生产Pellicle的卡要材质有硝化纤维素、醋酸纤 的成像好处如下：1．微层仅只掉落在膜I-_，使微尘对图 维素丁酸盐，醋酸丁酸纤维素、纤维酯、铁氟龙等。 的影响程度将降至最低。2．无须经清洗过程而只须用空 2．1不同材质及相应的穿透率 气枪吹去膜上异物即可将异物(微尘)去除。 光罩护膜的穿透率取决于护膜厚度、抗反射涂布的 类型、护膜材质对光的吸收度及晶圆曝光机或步进机所 一般而言，可将Pellicle分为两部分：(I)FRAME： 骨架部分，支持其光罩护膜的支架，其高度称为 nm)或 STAND．OFF，一般而言，愈高其能忍受Particle的能力采用的护膜材质，将这类护膜用于g-line(436 愈高，但须配合机台的设计使用。(II)FILM：透明的i-line(365nm)的晶圆曝光机或宽频投射晶圆步进机。然 光罩护膜，其厚度的均匀度，透光率是使用时重要的参 而这类材质会吸收小于350lira的光源波长，因此不能 使用低于350nlTi的光源波长。纤维酯(Celluloseesters)， 数。Pellicle的寿命，除了人为损伤外，一般均可曝光数 十万次，透光率衰减后才停用并更换。 如醋酸纤维素(celluloseacetate)和醋酸纤维素J一酸盐 acetate nm以上有不错的透光 如今，Pellicle在大部分的IC制造者的制程以及高(cellulosebutyrate)在300 AFR 解析投射成像系统中已经变成了一个不可缺少的元件， 率。而非结晶的氟聚合物材质，如铁氟龙(Teflon Glass 已经广泛应用于如薄膜磁头的制造，LCD屏幕显示器以 (DuPont))或CytopR(