聚硅烷的合成、表征及光敏性研究.pdfVIP

维普资讯 第17卷第2期 高分子材料科学与工程 v。I．17．N。．2 2001年 3月 POLYMER MATERIAISSCIENCEAND ENGINEERING Mar．2001 聚硅烷 的合成、表征及光敏性研究 胡慧萍，黄可龙，潘春跃 陈德本 甫工业大学化学化工学 院．胡甫 长沙 410083) (四川大学化学 蔡．四川 成都 610064 摘要：研完 了不同添加量的二甘醇二 甲畦和 15一冠醚一5两种助溶荆对 聚(甲基幕 己基硅烷 )(简记为 PM． PES)合成反应的影响，蛄果表 明，反应体 系中添加 l0 二甘醇二甲醚 (二甘肆 二 甲醚 ：甲莩 的体积 比)， PMPES的产率明显提高，分子量趋于单分散分布。井向聚(甲基琢 己基硅烷)(简记为 PMCS)和甲基环 己基硅烷一甲基苯乙基硅烷共聚精 (甲基环 己基二氯硅境 甲基苯 己基二^硅烷 的单体摩尔比为2．0、 ll0和0．5时．相应 的共聚物 分别简记为Copolymer1，Copo[ymer2和 Copo】ymer3)的合成反应 中添加 l0％二甘肆二甲醚助溶剂 ，其产率分别高速47 和52 以上 ，矾 均迭 10。井用 H—NMR、IR谱和 UV 哑收光谱时所合成 的聚硅烷进行 了表征 。研究了PMCS膜在空气中垃紫外先辐射前后的 IR谱和高教 凝肢渗透色谱(GPC)，表 明，PMCS经紫外光辐照后发生光降解的同时，还伴随着先氧化。 差羹词 ：聚硅烷 ；台成 ；助 溶剂 ；光降解 }光氧化 中田分类号：TQ3242—1~0631．24 文棘标识码 ：A 文章编号：1000—7555(2001)02—0149—05 聚硅烷可用作光致抗蚀剂、光电导体和陶 别 简 记 为 Copolymer l，Copolymer 2和 瓷的前驱体等，因此 ，在过去的十来年中，对聚 Copolymer3)的合成反应 中添加 l0 二甘 醇 硅烷的合成有过不少报道 口l2_。常用的合成聚硅 二 甲醚助溶剂，其产率分别高达47 和52 以 烷的方法是 ：二取代二氯硅烷的Wurtz型偶联 上，厨 均达 10。用。H—NMR、IR谱和Uv吸收 反应．即二取代二氯硅烷于 甲苯溶剂中．在熔融 光谱 对所合成的聚硅烷进行 了表征。研究 了 钠存在下进行脱氯缩舍n ]。但 用该法所合成 PMCS膜在空气中经紫外光辐射前后的 IR谱 的聚硅烷高分子量 产物 的产率较低 ．一般为 和高教凝胶渗透色谱 (GPC)。这方面的工作少 20 左右 一。为此 ，Miller等人口通过向反应体 有文献报道。同时，本工作为聚硅烷走向实用奠 系中添加少量的二 甲氧基乙烷或类似的醚类 ， 定了坚实的基础 。 发现可提高聚硅烷的产率，但分子量大大降低。 S．Gauthier等人口通过 向聚硅烷的反应体系中 1 实验部分 添加催化量的冠醚 ，也得到了类似的结果。 1．1 主要试剂与仪器 本 工作研究 了往 甲基苯乙基二氯硅烷的 甲基苯乙基二氯硅烷和 甲基环己基二氯硅 Wurtz型偶联反应体系 中添加助溶剂，如二甘 烷：自制口一，减压蒸馏，分别收集 94～95C／ 醇二 甲醚和 l一冠醚一5，当添加 10A二甘醇二 3066Pa柱馏分和 l64～ l6 C／8665Pa柱馏 甲醚 (--甘醇二 甲醚 ：甲苯的体积 比)时，PM 分 ；甲苯 ：加入金属钠回流 72h．通 N 蒸馏 ；l5 PES的产率 明显提高 ，分子量趋 于单分散分 冠醚一5：AR级，德国进 口；其余试剂为 AR级， 布。并向聚 (甲基环己基硅烷)(简记为PMCS) 北京化工厂产品；PMCS膜：将 PMCS配成约 和甲基环 己基硅烷一甲基苯乙基硅烷共聚物 (甲 10一mol／I，的