ICP-AES标准加入法测定电镀排放废水中Cd、Cr、Ni.pdf

第 34 卷第 12 期 工业水处理 Ｖｏｌ．34 Ｎｏ．12 年 月 Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｗａｔｅｒ Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ ， ２０14 12 Dec. ２０14 分析与监测 ICP-AES 标准加入法测定电镀排放废水中 Cd、Cr、Ni 潘 慧 ，冯光勇 ，康 元 （航天精工股份有限公司 ，天津 300300 ） ［摘要 ］ 电镀排放废水基体复杂多变 ，采用电感耦合等离子体发射光谱 （ICP-AES ）标准加入法测定电镀排 放废 水中的 、 、 ，可解决基体匹配的难题 。 对仪器分析条件的选择 、酸度和盐度的影响 、共存元素的干扰进行了研 Cd Cr Ni 究 ，该方法回收率为 ， 为 。 95%～106% RSD 3.7%～6.3% ［关键词 ］ 电感耦合等离子体原子发射光谱 ；标准加入法 ；电镀废水 ［中图分类号 ］ ［文献标识码 ］ ［文章编号 ］ （ ） X832 A 1005-829X 2014 12-0082-02 Determination of the contents of Cd ，Cr ，Ni in electroplating discharged wastewater by the method of standard addition of ICP-AES ， ， Pan Hui Feng Guangyong Kang Yuan （ ， ， ） Aerospace Precision Products Corporation Tianjin 300300 China Abstract ： Wastewater matrix from electroplating wastewater is complex and multivariable. The method of standard addition of inductively coupled plasma atomic emission spectrometry （ICP-AES ） has been used for the determination ， ， ， of the contents of Cd Cr and Ni in electroplating wastewater in order to solve the problem of matrix matching. The ， ， selection of instrument analysis conditions the influence of acidity and salinity and the interference of coexisting ， elem