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从抛光的角度分析抛光砖变形的原因及解决办法 刘向东 / 广东东鹏陶瓷股份有限公司 【摘 要】抛光砖在生产中，由于种种因素的存在，出现砖变形情况并不少见，这直接影响到了抛光砖的 品质。为此，必须解决好砖变形的问题。文章在分析抛光砖的抛光原理的基础上，总结与阐述了影响抛光 砖变形的因素，并提出了一些克服变形的措施与办法。 【关键词】抛光砖；磨削；摆臂长度；磨头数量；因素 抛光砖是通体砖坯体的表面经过打磨而成的一种光亮的砖，同时也是一种高品质的仿花岗岩装饰材料, 集美观庄重、富丽堂皇、典雅华贵为一体，装饰效果甚至优于天然石材。其耐磨性及力学性能均属上乘。 但长期以来，抛光砖的变形问题一直没有得到很好的解决，为了提高抛光砖的质量，本文总结与阐述了影 响抛光砖变形的因素，并提出了一些克服变形的措施与办法。 1 假设 (1)抛光机的磨头旋转时的平面与抛光机底板平面是平行的。 (2)进入抛光机的砖是平整的且无厚薄差 (即底面与表面平行)。 (3)磨削过程中因有些地方磨削量多，有些地方磨削量少，而导致砖面凹凸不平。这时由于受到压力F， 砖与皮带都可能产生变形，而使砖面始终与磨盘接触，即磨削过程中不受砖面影响。 (4)在磨削过程中，磨削量与两接触面的压力和相对运动速度有关。因假设磨盘始终与砖面接触，因 此各点所受的压力一致。在抛光过程中，砖以速度v前行、磨盘自身以角速度ω旋转且以速度v1摆动，这 样在砖面上各点与磨盘上各点的相对速度就不一致。但由于 ω远远大于v和v1，假设他们的相对速度一样， 即在t时刻，经过时间 Δt，磨盘与砖面接触的位置的磨削量都为：i。 (5)本文只研究抛光机对横向变形的影响，因此取砖前边的一条线作为研究对象。 (6)砖的尺寸为600mm×600mm的正方形，磨盘摆动的中心线与砖的中心线重合。 (7)因实际生产中抛光机由30～50个磨头组成，本文只讨论一个磨头的磨削过程。 2 建立模型 2.1 确立坐标 取砖前边刚接触磨盘且磨盘正好摆到中心时刻为坐标轴，则此刻磨盘，中点的坐标为：(300,260)。 2.2 建立模型 为分析问题，本文从最简单的抛削入手，并逐步增加影响因素。 (1)磨盘为一圆形的盘，且固定不动 当砖前边从接触磨盘到离开磨盘，砖没有与磨盘接触的地方磨削量为0，而其余各点与磨盘的接触时 间正是图中的a，接触的时间越长，磨削的深度就越深，因此砖面各点的磨削深度。 (2)磨盘为环形磨盘，且固定不动 在上述研究的基础上，将环形磨盘引入。在t时刻，当砖面与磨盘内径以内接触时，并没有被磨削， 因此要在上述的基础上减去没有磨削的部分量b。而砖两边大于磨盘的部分还是没有磨削，因此磨削深度 的关系如式(3)所示： 抛得最深的并不是中间，而是处于圆盘内径的位置，即x轴坐标为300-110=190和300+110=410的位置。 而两边依然是因砖尺寸大于磨盘尺寸，而没有被抛到。 (3)磨盘为环形，且左右摆动 为研究抛光机的真实情况，采用电脑仿真的方式模拟磨削过程。具体仿真形式如下：电脑以0.01s的 时间间隔，在此时间内砖面与磨盘接触的点被磨削深度为1个单位，则砖面上x坐标点，t时刻的磨削深度h 的关系如式(4)所示。 其中，h(x,0)初始为1×600的全0数组。 其次，进行现场数据测量，确定如下几个变量：r=120mm为摆臂内径；Q=5s为摆臂电机旋转一圈需要 的时间；R=260mm为磨盘外径；a=150mm为模块长度；v=8m/s为抛光速度(即砖前行的速度)。 则摆臂电机的角速度： 磨盘内径:R1=R-a=260-150=110mmt时刻磨盘中心的x轴坐标为： l=r×sin(w1×t)+300 (6) t时刻砖向前移动的距离: k=v×t (7) 当kR-r或kR+r，粗线为受到抛削的部分，即当时向下抛了1单位深度；当R-rkR+r时