反应溅射制备AlN薄膜中沉积速率的研究.pdf

第 卷 第 期 稀有金属材料与工程 VW( = $!， $! $ )W = $ 年 月 %% 1 T’T2 Q2*’R Q’*2TU’RB ’)O 2)GU)22TU)G X7;? %% 反应溅射制备!# 薄膜中沉积速率的研究 ， ! ! 许小红 ，武海顺 ，张富强 ，张聪杰 ，李佐宜 （华中科技大学，湖北 武汉 ） ! #$%%# （ 山西师范大学，山西 临汾 ） %#!%%# 摘 要：通过对溅射过程中辉光放电现象及薄膜沉积速率的研究，发现随着氮浓度的增大，靶面上形成一层不稳定的 层，由于 的溅射速率远小于 ，从而使薄膜的沉积速率显著下降。同时还研究了其它溅射参数对薄膜沉积速 ’() ’() ’( 率的影响。结果表明：随靶基距的增大和靶功率的减小，不同程度引起沉积速率的下降；随着溅射气压的增大，最初沉 积速率不断增大，当溅射气压增大到一定程度时，沉积速率达到最大值，之后随溅射气压的增大，又不断减小。 关键词：反应溅射；氮化铝薄膜；沉积速率 中图法分类号： 文献标识码： 文章编号： （ ） *+#$ ’ !%% , !-./ %% %$ , %%0 , %# 六方铅锌矿结构’() 薄膜具有一系列优异的物理 的关系曲线就是一个至今还没有了解清楚、但又严重 ［，］ ［］ 1 化学性质，如高的机电耦合系数、高的声传播速度、高 影响反应溅射制膜的重要物理现象 。文献 认为， 的电阻率，高的热导率、高的硬度和良好的光学性能， 氮浓度增大引起沉积速率降低的主要原因为 的溅 ) 使之在力学、光学、声学和电子学上具有广泛的应用前 射产额小于’J，而本研究首次对沉积速率降低原因进 ［ ］ 景! A $ 。在表声波（ ）和体波（ ）器件的应用 B’C +’C 行了探讨，还对溅射气压、靶功率以及靶基距等实验参 中，由于’() 薄膜的声速比D;E 和F:B 的声速大约高