大尺寸硅基体633nm和3.5～4.1μm双波段高反射膜研制.pdf

第41卷第7期 红外与激光工程 2012年7月 V01．41NO．7 and Jul．2012 InfraredLaser Engineering 大尺寸硅基体633nm和3．5～4．1um双波段高反射膜研制 岳威1,2，韩永昶z，东野斯阳2，武淑明2，赵明艳z (1．固体激光技术国家级重点实验室，北京100015；2．华北光电技术研究所，北京100015) 摘 要：硅由于透光区域较宽，便于光学系统使用而经常应用于中波红外光学系统中。但是，以其作 为基底，镀制0022．5。入射、633 nm与3．5—4．1“m双波段的反射膜却具有相当大的难度，尤其是 邸00mm等大尺寸硅镜引起的牢固度问题。以红外光学和薄膜技术为背景，介绍了大尺寸硅基体反射 膜的特性、制备及测试方法。由于红外区可选用的薄膜材料较少，兼顾膜层的制备、光谱特性及可靠 性满足等方面因素，最终采用氟化镱(YbF3)作为低折射率材料。经过多次实验，采用速率控制、离子 辅助等工艺方法，选取合适的基底温度。解决了在大尺寸硅基体上由于膜层过厚以及YbF3膜层严重 应力作用而导致的膜层龟裂问题，最终研制成功符合使用要求，且可靠性和光谱特性皆优的双波段反 射薄膜。 关键词：红外光学； 大尺寸硅镜； 高反射膜； 牢固度 中图分类号：0484文献标志码：A 文章编号：1007—2276(2012)07—1854一04 Dual-band633amand3．5-4．1 reflection Ixm on sizesiliconsubstrates coatingslarge Yue Weil’，Han Yongchan92，DongyeSiyan92，WuShuming。2，ZhaoMingyan2 (1．NafionM ofSofid—state 100015，China； KeyLaboratory Laser，Beijing 2．NoahChinaResearchInstituteof Technology．B嘶ing100015，China) Electro—optics make ofits Abstract：Siliconis usedto lensformid—infrared becausewideband usually opticalsystem transmission asa thecaseof00一22．5。incidentwas difficultto substrate，in region．But angle，itvery on for mill dual-bandreflectioncoatin the sizelenses． durabilityof∞00large deposit gs Si，e