大面积高分辨率CsI（Tl）X射线转换屏实验研究.pdf

第31卷 第2期 深圳大学学报理工版 Vol．31 No．2 2014年3月 JOURNAL OF SHENZHEN UNIVERSITY SCIENCE AND ENGINEERING Mar. 2014 ■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■■ 【光电工程/ Optoelectronic Engineering】 大面积高分辨率CsI (Tl) X射线转换屏实验研究 1 2 1 1 1 1 廖　 华 , 胡　 昕 , 杨勤劳 , 王光超 , 王云程 , 阔晓梅 1) 深圳大学光电子器件与系统教育部重点实验室, 光电子学研究所, 深圳518060; 2) 中国工程物理研究院激光聚变研究中心, 四川 绵阳621900 + 摘　 要: 通过对X射线转换屏制备过程中, Tl 掺杂浓度、 基底刻蚀、 晶柱生长过程和防潮解等方面 的大量实验研究, 得到最佳掺杂浓度(摩尔比为0．055%)及合适的基底刻蚀深度(5 μm)与工艺, 实现对晶 柱生长过程中表面形貌、 温度、 压力和转速的控制, 研制出有效直径为 100 mm、 空间分辨率约为 12 lp/ mm (厚度为300 μm) 的CsI (Tl) X射线转换屏. 关键词: 数字成像; 掺杂浓度; 基底刻蚀; 晶柱生长; 空间分辨; X射线转换屏 中图分类号: TN 143;TL65　 　 　 文献标志码: A　 　 　 doi: 10.3724/ SP.J.1249.2014.02174 Experimental study on an X-ray CsI (Tl) converting screen with large format and high spatial resolution 1 2 1† 1 Liao Hua ,Hu Xin ,Yang Qinlao ,Wang Guangchao , 1 1 Wang Yuncheng ,and Kuo Xiaomei 1) Key Laboratory of Optoelectronic Devices and Systems of Ministry of Education,Institute of Optoelectronics, Shenzhen University,Shenzhen518060,P.R.China 2) Research Center of Laser Fusion,China Academy of Engineering Physical,Mianyang621900,Sichuan Province,P.R.China Abstract:Aimed toobtainaCsI (Tl)X-rayconvertingscreenwithhighspatialresolution,alotof experimentshave + been carried out including Tl doping concentrations,etching substrates,and growing crystal columns