对向靶溅射高饱和磁化强度(Fe,Ti)-N薄膜.pdf

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2015-09-22 发布于湖北
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真空科学与技术第18卷第2期 VACUUMSCIENCEANDTECHNOI．0GY(C圈斟A) 1998年3月姜恩永王合英1)刘明升 (天津大学应用物理系天津300072) 1997年1月27日收到 ThinFilmswith Saturation (Fe，Ti)-N High byFaringTargetsSputtering Heying，LiuMingsheng JiangEnyong，Wang Physics，姊Umversay，Tianfin，300072) (n妒捌ofApplied In thinfilmswith saturation were on Abstractthis stuay，the(Fe，Ti)一N high magnetizationgrown NaCI substrates diffmetometerandtransimissionelectron were crystal byfacingtargetssputtering．X-ray microscope sillde of andsubstrate onthestructuresand usedto theinfluence magnetic investigate nitrogengaspmssure temperature pmper— films．When Paand is tOform ties Fel6N2 of(Fe，n)一N PM=O．04～0．07t=100～150℃，itadvantageous phase． films undertheseconditionswas2．3～2．46 is Thesaturation of T，which magnetizationthe(Fe，Ti)一Ndeposited larger than thatof iron． pure thin film，Magneticproperties KeywordsFacingtargetssputtering，Fel6N2 Pa，衬底 (Fe，Ti)．N薄膜，研究了氮气分压和衬底温度对薄膜结构与磁性的影响。氮气分压为0．04～0．ar7 2．46 T，超过纯Fe的饱和磁化强度值。关键词对向靶溅射Fel6N2薄膜磁性 1引言． a”一Fe】6N2薄膜材料具有超高饱和磁化强度(M。=2．8 和合金的M。值，因