四钛酸钾晶须表面二苯并噻吩印迹聚合物的制备及其性能研究.pdf

第39卷 分析化学(FENXIHUAXUE)研究简报 第4期 2011年4月 ChineseJournalof 560～563 AnalyticalChemistry DOI：10．3724／SP．J．1096．2011．00560 四钛酸钾晶须表面二苯并噻吩印迹聚合物的 制备及其性能研究 黄卫红¨ 周威1 徐婉珍1 徐平平2 徐相君1 闰永胜’2 1(江苏大学环境学院，镇江212013)2(江苏大学化学化工学院，镇江212013) 摘要 以二苯并噻吩为模板，}乙烯基吡啶为功能单体，四钛酸钾晶须为载体，合成了对二苯并噻吩具有特 异吸附的四钛酸钾表面分子印迹聚合物。采用红外光谱、扫描电镜、氮气吸附对其形貌和结构进行表征，利用 气相色谱法研究其吸附性能。结果表明：在318K，吸附时间为240min时，吸附效果最佳。在初始浓度500 mg／L 的二苯并噻吩溶液中平衡吸附量为23．33 mg／g；吸附过程符合Pseudo-second-order动力学模型，以化学吸附为 主；吸附行为符合Freundich等温线方程，为多分子层吸附；吸附为自发、吸热、以熵驱动为主的过程。选择性 吸附实验表明，四钛酸钾表面分子印迹聚合物对二苯并噻吩具有特异选择性。 关键词表面印迹；二苯并噻吩；四钛酸钾晶须；气相色谱法 1 引 言 分子印迹技术是通过合成分子印迹聚合物(Molecular imprintedpolymer，MIP)模拟自然界中分子的 识别作用，从分子结构相近的混合物中识别目标分子【1．21。然而传统方法制备的MIP功能基团“包埋”较 深，不利于目标分子的洗脱和再次识别吲。自1949年DickeffI用沉淀法制备了印迹硅胶以来，表面印迹 法逐渐被人们所认识。基于硅胶表面的MIP的印迹位点分布在聚合物表面，不仅便于洗脱，而且有利 于目标分子接近识别位点，识别速度快嘲。 环保法规日趋严格，使得油品的深度脱硫十分迫切。迄今为止，主要的脱硫工艺仍是传统的加氢脱 硫，其对硫醇和硫醚有很高的脱除率，但是却很难脱除噻吩类及其烷基化衍生物C61。为实现“无硫”的规 范，一些新的脱硫方法脱颖而出，如生物脱硫川、离子液体脱硫【s】、吸附脱硫p1等。其中，吸附脱硫以其操 作简单、效果显著、经济可行而得到人们青睐191。 本实验以二苯并噻吩为模板，4-乙烯基吡啶为功能单体，四钛酸钾为载体，合成了四钛酸钾表面分 子印迹聚合物。在对其形貌和结构表征的同时，考察了其吸附性能。 2 实验部分 2．1仪器与试剂 Nexus 7890A气相色谱仪(美国安捷伦公司)；Nicolet470傅立叶变换红外光谱仪(美国尼高力公 康塔公司)。 纯)、乙二醇二甲基丙烯酸酯(Ethylglycol 2．2吸附剂的制备 mol／L 四钛酸钾晶须使用前用3 HCl浸泡24h，以蒸馏水洗至中性，干燥，研磨，过筛，备用。参照文 2010-08-26收稿；2010-10-21接受 ’E-mail：xwzOg@ujs．edu．cn,whuan9630@163．corn 万方数据 *aⅫ ∞Ⅲ§*：目#＆*日《i=*#《目目＆《☆#∞Ⅻ☆#*№Ⅲ女 0mmo]DBT，4,0mmol 献【10】，在安培瓶中加^1 4-VP-10血L甲苹，超卢分散10min，通氮气5而in，窀 0mmol 温下水浴搅拌反应4h。在混台溶液中加^20 EGDMA，01 0．6mmol