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低阻ITO玻璃的制造工艺
第 35 卷 第 2 期 电 子 科 技 大 学 学 报 Vol.35 No.2
2006 年 4 月 Journal of UEST of China Apr. 2006
·光电子学工程与应用·
低阻ITO玻璃的制造工艺
杨健君 ，李军建，张有润，王 军，林 慧，饶海波，蒋 泉，成建波
( 电子科技大学光电信息学院 成都 610054)
【摘要】有机发光显示器件是目前平板显示中的热点，所用ITO玻璃比液晶显示所用的有更高更严的要求。该文探讨了
OLED用ITO玻璃生产的相关工艺，得出使用直流溅射ITO 陶瓷靶时，较好的气氛是低氩微氧，功率约200 W左右，溅射时基板
温度约250 ℃，高温无氧退火。得到方阻20 Ω以下、平均透过率大于80%的ITO玻璃。
关 键 词 氧化铟锡; 玻璃; 有机发光二极管
中图分类号 TN305 文献标识码 A
Crafts in ITO Glass for OLED Used
YANG Jian-jun ，LI Jun-jian ，ZHANG You-run ，WANG Jun ，LIN Hui ，
RAO Hai-bo ，JIANG Quan ，CHENG Jian-bo
(School of Photo-Electronic Information, UEST of China Chengdu 610054)
Abstract Low resistivity Indium Tin Oxide (ITO) films were deposited by DC magnetron sputtering using
ITO targets. Films deposited at substrate temperature of 250℃ with 200 W input DC power, in an oxygen/argon
atmosphere, argon flow was kept at about 16 sccm and the oxygen flow was less than 1sccm, respectively.
Annealing of the ITO films without oxygen for 1 h was necessary for achieving low resistivities. Low resistivity
(20 Ω) and high transmittance (80%) in visible region were found to occur at a high annealing temperature about
350℃.
Key words indium tin oxide; glass; organic light-emitting diode
平板显示领域中，有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED) 的研发和量产问题都被重点关注。
OLED所用氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)玻璃比液晶显示(Liquid Crystal Display，LCD)所用的玻璃的方
阻低一个数量级，平整度高一个数量级，制造工艺较复杂，目前国内研究OLED 的单位大都购买进口的ITO
玻璃，因此研发OLED用ITO玻璃的制造工艺成为当前紧迫之事。
表1 ITO工艺参数表
1
1 常用工艺参数 主要相关
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