NiZn铁氧体靶材及薄膜的磁性能和微观结构.pdfVIP

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2015-09-27 发布于重庆
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NiZn铁氧体靶材及薄膜的磁性能和微观结构

NiZn铁氧体靶材及薄膜的磁性能和微观结构赵晓宁，兰中文，孙科，余忠，蒋晓娜 (电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室，四川成都 610054) 摘要：首先采用固相反应法制备NixZnhFe2O4铁氧体靶材 (x=0．2~0．8)，研究了Ni取代量对靶材Il生能的影响；并选用 Ni05Zn05Fe2O4靶材，采用射频磁控溅射法在 si(100)基片上制备了NiZn铁氧体薄膜。靶材样品的分析结果表明，随Ni含量增加，样品的x射线衍射峰向高角方向移动，晶格常数和平均晶粒尺寸都单调减小；当x=0．5—0．6时，Ni．Znl—xFe2O4铁氧体饱和磁感应强度。较高，矫顽力较小。薄膜样品的分析结果表明，制备的薄膜经 800~C退火后，呈尖晶石结构，并沿 (400)方向择尤取向；薄膜的饱和磁化强度和面内矫顽力分别为310kA／m和 8．833kA／m。关键词：NiZn铁氧体；靶材；薄膜；磁性能；微观结构中图分类号：TM277；0484．43 文献标识码：A 文章编号：1001．3830(2009)03．0020-04 M agneticandStructuralPropertiesofNiZnTargetsandThinFilm ZHAO Xiao—ning，LAN Zhong-wen，SUN Ke，YU Zhong，JIANG Xiao-na StateKeyLaboratoryofElectronicThinFilmsandIntegratedDevices,UniversityofElectronic ScienceandTechnologyofChina,Chengdu610054,China Abstract：TheNixZnl一Fe204( 0．2-0．8)ferritetargetswerepreparedbysolidstatereactionmethod，thenthe effectsofNicontentonthepropertiesofNiZntargetswereinvestigated．Andbasedonstudyontargets，Ni05Zno5Fe204 ． ferritethinfilmswerepreparedonsingle—crystalSi(1OO)substratebyradiofrequency(RF)magnetronsputtering technique．TheXRD pattem oftargetmaterialsshowedthat，wiht theincreaseofNicontent，diffractionpeaksoftarget samplesshift tohigherangle，whichindicateslatticeconstantandaveragegrainsizedecreasemonotonously~Atthe optimalconditionofx=0．5-0．6，Ni~ZnI-xFe204ferritetargethasalargerBsandlower ．Theresultsoffilmsannealed at800℃ indicatedthatthefilmexhibitsspinelstructure，preferential(400)orienattion，saturationmagnetization(M3of 3lOkA／mandin—planecoercivity( )of8．833kA／m，respectively． Kevwords：NiZnferrite； atrgets； thinfilms； mangeticproperties； microstructure