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2015-09-27 发布于重庆
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YIG溅射薄膜的磁和磁光性能

重掺杂Bi：YIG溅射薄膜的磁和磁光性能谢红辉1，刘颖力2，杨青慧2 (1．东北电力大学信息工程学院，吉林长春132012； 2．电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室，四川成都610054) 线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、磁光克尔仪／光学分度计、振动样品磁强计(VSM)分别研究了薄膜的微结构、磁光性能和磁性能．薄膜的饱和磁化强度为135～139kA]m，不同基片上制备的薄膜的矫顽力不同，薄透射率谱非常相似，当退火温度为800U时，在A1203基片上的薄膜透射率谱将出现一个台阶．关键词：Bi：YIG薄膜；结构；磁性能；磁光性能中图分类号：0484．4+3 文献标识码：A 文章编号：1001—3830(2007)04-0028-03 The and of YIG PropertiesHeavilyBi-Doped MagneticMagneto-optical FilmAnnealedRTAMethod (Bi：YIG)Sputteringby XIE Hong．huil，LIUYing～li，YANGQing—hui2 1．School Dianli 13201ZChina； University,Jilin oflnformationEngineering,Northeast 2．State Filmsand KeyLaboratoryofElectronicIntegratedDevices,University Scienceand 610054,China ofElectronic Technology,Chengdu Abstract：Inthis and of Bi：YIG film doped paper,themagneticmagneto-opticalpropertiesheavily sputtering beenstudied．Thefilmwas radio methodand have depositedby frequencymagnetronsputtering crystallizedbyrapid thattheR1’Atreatedfilmhas bothinmicrowaveand thermal resultsshow optical annealing(RTA)．The goodproperties on froml35tol39kA／m．The waveband．Thesaturation ofthefilmdifferentsubstratesvaries magnetization coercivity ofthefilmondifferentsubstrateare rotationisabout when