Cu掺杂TiO2薄膜的摩擦学性能.pdf

Huaxue 物理化学学报(Wuli Xuebao) 2317 August Acta脚s．一Chim．Sin．，2010，26(8)：2317-2322 【Article】 Cu掺杂Ti02薄膜的摩擦学性能 晁闻柳1 万 勇1，’ 王云霞z 刘长松1 (1青岛理工大学机械工程学院，山东青岛266033；2中国科学院兰州化学物理研究所， 固体润滑国家重点实验室，兰州730000) 摘要： 采用溶胶．凝胶法在普通玻璃基底上制备了纯Ti02和cu掺杂的Ti02(Cu。rio：)纳米结构薄膜，利用x 量对薄膜组成、结构、表面形貌及摩擦学性能的影响．结果表明，相比于纯TiO：薄膜，cu掺杂TiO：纳米薄膜平 整、均匀，具有较好的耐磨减摩性能．cu掺杂量的多少直接影响cu—Ti02薄膜的减摩抗磨性能，当cu掺杂量为 5％(摩尔分数)时，cu．TiQ膜具有最佳的耐磨寿命和最低的摩擦系数． 关键词：TiO：；溶胶凝胶；薄膜；铜掺杂；摩擦学性能 中图分类号：0647 of Films TiOz TribologicalPropertiesCu-Doped CHAOWen—LiulWAN WANGYun—XiaLIU Yongp Chang—Son91 (1School ofMechanicalEngineering,Qingdao Province,PR．China； TechnologicalUniversity,Qingdao266033,Shandong 2State Institute Lubrication,Lanzhou KeyLaboratoryofSolid ofChemicalPhysics,ChineseAcademyofSciences, Lanzhou 730000,P．R．China) Ti02and thinfilmswel-e a Abstract：UndopcdCu-dopedTiOzrCu-TiOz)nano-structureAbysol-gelprocess prepared on substrates．We their structures，surface glass investigated morphologies，andtribologicMpropertiesbyX-ray force frictionandwear spectroscopy(XPS)，atomic diffraction(XRD)，and photoelectron