CVD法制备ZnS的数值模拟.pdf

Hot 20l WorkingTecllnolog)r3，V01．42，No．4 CVD法制备ZnS的数值模拟 王凡，苏小平．张树玉 (北京有色金属研究总院有研光电，北京100088) 摘要：介绍了红外用光学材料znS的性能和制备方法。通过建立CVD法制备ZnS的物理模型，针对流量和压力 对沉积过程的影响进行了数值模拟。结果表明，随气体流量的减小，沉积室内气流柱增高，回流区域增大，沉积速率增大 且最大值上移。随沉积压力的减小，沉积室内气流柱同样增高，回流区域增大，沉积速率分布逐渐均匀化，但沉积速率整 体减小。数值模拟的结果对具体的掌握沉积过程中的影响因素有一定的帮助。 关键词：化学气相沉积：数值模拟：ZnS 中图分类号：TGl74 文献标识码：A 文章编号：1001．3814(2013)04．0170．03 SimulationofZnS Chemical by VaporDeposition Prepared WANG Fan，SUXiaoping，zHANGShuyu ResearchIllstimteofNonfe丌ousMetals (Geneml optoelec仃onic，Beij崦100088，China) chamcteristicsandmemodofthe of chemical was Abstract：T11e teclllliquemaIlufactu咖g动Sby V印ord印osition in仃oduced．0nthebaseofmereactor eff色ctsofnowand ontlle weresimulated．The model，tlle pressllred印ositionpmcess nowareaillcreasesandthe mte resultsshow thedecreaseof now back that，wim flow，meincreases，the deposition gas increases．Withthedecreaseof now backnowareaincreasesandme mte pressuredecreases，theincrease，me d印osition dis仃ibute resultofsimulationis for mef．actorsofthe unifomly．The helpfIllcontrollillg depostionprocess． Keywords：chemical v印ordeposition(CVD)；simulation；znS ZnS的透射波段覆盖可见光到长波红外，光谱 果方面具有不可替代的作用【硎。 适应性强，并且机械强度、耐湿性、抗热冲击性能良 1 基本模型 好，化学性能稳定，线膨胀系数适中，与许多金属或 合金较接近．可直接粘接，因而被认为是目前中远红 本文研究的CVDZnS沉积室的基本模型如图1 外波段最合适的红外材料。 所示，模型按照实际模型等比例设计