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第 卷第 期 红 外 与 毫 米 波 学报 ， 21 3 Vol. 21 No.3 年 月 ， 2002 6 J. InfraredMillim. Waves June 2002 RF-HFCVD生长高质量纳米金刚石薄膜! 1） 1） 1） 2） 邱东江 吴惠桢 陈奶波 石成儒 1） （浙江大学物理系，浙江，杭州， ； 310028 2）浙江大学中心实验室，浙江，杭州， ） 310028 摘要 采用射频等离子体增强的热丝化学气相沉积（ ）技术在石英玻璃衬底上制备了高质量的纳米金 RF-HFCVD 刚石薄膜 研究了衬底温度、反应气压及射频功率对金刚石膜的结晶习性和光学性质的影响，其最佳值分别为. 、 和 在该条件下金刚石成核密度达 11 -2，经 生长即获得连续薄膜，其平均晶粒尺寸 700C 2133pa 200W. 10 cm 1h 为 ，表面粗糙度仅为 ，在近红外区域（ 处）的光透过率达 25nm 55 800nm 90%. 关键词 纳米金刚石薄膜，射频等离子体增强热丝化学气相沉积，光透过率. HIGH UALITY NANOCRYSTALLINE DIA OND O FIL SGROWN BY RF-HFCVD! 1） 1） 1） 2） GIUDon -Jian WU Hui-Zhen CH N Nai-Bo SHI Chen -Ru g g g 1） （ ， ， ， ， ； De artment of ph sics Zheian Universit Han Zhou Zheian 310028 China p y j g y g j g 2） ， ， ， ） CentralLaborator of Zheian Universit Han Zho