三聚苯撑乙烯蒙脱土发光光谱的时间依赖性.pdf

物理化学学报(Wuli Huaxue Xuebao) March Acta Phys. Chim. Sin., 2009, 25(3) ：545-548 545 [Article] 聚苯撑乙烯/蒙脱土发光光谱的时间依赖性 张海全1, 松1 杨秀珍1 张成波1 翟 静2 李青山1 (1 燕山大学, 亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室, 河北秦皇岛 066004; 2 燕山大学环境与化学工程学院, 河北秦皇岛 066004) 摘要： 用原位插层法制备了插层型的三聚苯撑乙烯/蒙脱土(TPV/MMT)纳米复合材料. 研究了新制备及在室 温储存 180 天后的TPV/MMT 纳米复合材料的荧光光谱及蒙脱土层间距的变化情况. 荧光光谱分析表明, 储 存 180 天后, TPV/MMT 纳米复合材料的最大发射峰由494 nm 蓝移到438 nm, 半峰宽由77 nm 增加到 104 nm. X 射线衍射结果表明, 与新制备的复合材料相比, 蒙脱土的层间距由 1.52 nm 减 到 1.22 nm. 红外光谱 分析表明, 室温储存 180 天后的三聚苯撑乙烯苯环的某些特征峰由 1598 和 1554 cm-1 分别红移到 1506 和 1462 cm-1. 依据相关实验和理论数据探讨了储存180 天前后TPV 在蒙脱土中聚集态结构的变化方式. 关键词： 三聚苯撑乙烯; 蒙脱土; 聚集态; 光致发光; 层间距 中图分类号： O644 Deposited Time Dependence of Luminescence Spectra of Trimeric Phenylenevinylene/Montmorillonite ZHANG Hai Quan1, ZHANG Song1 YANG Xiu Zhen1 ZHANG Cheng Bo1 ZHAI Jing2 LI Qing Shan1 1 ( State Key Laboratory of Metastable Materials Science and Technology, Yanshan University, Qinhuangdao 066004, Hebei Province, P. R. China; 2College of Environmental and Chemical Engineering, Yanshan University, Qinhuangdao 066004, Hebei Province, P. R. China) Abstract ：The incorporation of trimeric phenylenevinylene (TPV) into the interlayer space of montmorillonite (MMT) was performed by an in situ intercalation method. Effects of storage time on the photolumine