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2015-09-30 发布于重庆
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一种高折射率散射膜的制备方法与应用.pdf

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一种高折射率散射膜的制备方法与应用

SooPAT 一种高折射率散射膜的制备方法及应用申请号：201210175474.0 申请日：2012-05-31 申请(专利权)人昆山维信诺显示技术有限公司北京维信诺科技有限公司地址 215300 江苏省苏州市昆山市昆山高新区晨丰路188号发明(设计)人董艳波张国辉刘永祥段炼主分类号 H01L21/56(2006.01)I 分类号 H01L21/56(2006.01)I 公开(公告)号 102683231A 公开(公告)日 2012-09-19 专利代理机构北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人张建纲注：本页蓝色字体部分可点击查询相关专利 (19)中华人民共和国国家知识产权局 *CN102683231A* (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 102683231 A (43)申请公布日 2012.09.19 (21)申请号 201210175474.0 (22)申请日 2012.05.31 (71)申请人昆山维信诺显示技术有限公司地址 215300 江苏省苏州市昆山市昆山高新区晨丰路188 号申请人北京维信诺科技有限公司 (72)发明人董艳波张国辉刘永祥段炼 (74)专利代理机构北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人张建纲 (51) Int.C l. H01L 21/56 (2006.01) 权利要求书 1 页说明书 7 页权利要求书1 页说明书7 页 (54) 发明名称一种高折射率散射膜的制备方法及应用 (57) 摘要本发明公开一种高折射率散射膜的制备方法，包括如下步骤：S1、制备研磨分散液，所述研磨分散液包括：高折射率散射颗粒，质量百分比： 10%-60% ；分散剂质量占所述高折射率散射颗粒的1%-60% ；防沉剂，质量百分比：0-5% ；光刻胶，质量百分比：0-60% ；有机溶剂，质量百分比为： 20%-89.9% ；S2、采用过滤孔孔径在0.8um-1.2um 的滤纸压滤所述步骤S1 制备的研磨分散液，得到制膜溶液；S3、所述步骤S2 制备的所述制膜溶液经光刻旋涂于基底上；S4、所述步骤S3 中的基底在60-80℃下烘烤30 分钟，制备得到散射膜。上述高折射率散射膜将基底去掉即可贴在OLED 器件外层，提高OLED 器件的出光效率。 A 1 3 2 3 8 6 2 0 1 N C CN 102683231 A 权利要求书 1/1 页 1. 一种高折射率散射膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： S1、制备研磨分散液，所述研磨分散液包括：高折射率散射颗粒，其质量百分比为：10%-60%，初始粒径为100-800nm ；分散剂，其质量占所述高折射率散射颗粒的1%-60% ；防沉剂，其质量百分比为：0-5% ；光刻胶，其质量百分比为：0-