液态源雾化化学沉积法制备(Pb,La)TiO3薄膜.pdf

第 卷第 期 硅 酸 盐 学 报 9 31 6 Vol.31 No.6 ! 年 月 9 Z 0 0 3 6 JOURNAL OF T~E C~INESE CERAMIC SOCIET June Z 003 ! 液态源雾化化学沉积法制备! # 薄膜 Pb La TiO3 张之圣!曾建平!胡 明!李小图 ! (天津大学电子信息工程学院9天津 30007Z) ! 摘 要$研究了在 基片上用液态源雾化化学沉积法制备镧钛酸铅 ( 9 ) 9 薄膜的工艺9 并分析了各种因素对其 Pt Ti SiO Si Pb La TiO PLT ! Z 3 相结构的影响0 采用金属有机物热分解工艺的先体溶液9在沉积阶段9用超声波将先体溶液雾化9产生微米级的汽雾9 由载气( )引入沉积 Ar 室进行沉积9并在沉积室进行预热处理0重复上述过程9直到膜厚达到要求9再进行退火处理得到均匀~ 致密的薄膜0 此工艺各项参数如下: 沉积前沉积室内气压为 -3 ; 沉积时沉积室内气压为 3 3 9沉积时基片温度为 ; 预处理温度为 ; 最佳 410 Pa 810 910 Pa Z0 Z5 300 ! ! 热处理温度为 ; 超声雾化器工作频率为 ; 薄膜沉积速率为 0 和 图分析说明9制备的铁电薄膜具有钙钛矿 600 1.7 M~Z 3 nm min XRD SEM 结构0 关键词$镧钛酸铅; 液态源雾化化学沉积; 薄膜; 射线衍射 X 中图分类号$ 文献标识码$ 文章编号$ ( ) TN304.055 A 0454