激光限制结晶技术制备nc-SiSiO2多层膜.pdf

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 9% ! !## ! ， ， ， EJK /9% ;J / ! FL?L4ML1 !## （ ） ###)%!$#- !##- 9% ! - %#%)#9 A@A 6,H*IA *I;IA !!## N+5 / 6NOP / *J? / ############################################################### 激光限制结晶技术制备!#$% $%’( 多层膜! 乔 峰 黄信凡 朱 达 马忠元 邹和成 隋妍萍 李 伟 周晓辉 陈坤基 （南京大学物理系，固体微结构物理国家重点实验室，南京 !##$% ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） !##% ! %# !## % ’ 在等离子体增强化学气相淀积系统中，采用 ： 层淀积和原位等离子体氧化相结合的逐层生长技术制备了 ()*+ , ： 多层膜 在激光诱导限制结晶原理基础上，使用 准分子脉冲激光为辐照源，对 ： 多层膜进 ()*+ ,- *+. / 012 ()*+ ,- *+. ! ! 行辐照，使纳米级厚度的 ： 子层晶化 散射谱和电子衍射谱的结果表明，经过激光辐照后纳米 颗粒在 ()*+ , / 3(4(5 *+ 原始的 ： 子层内形成，晶粒尺寸可以根据 ： 层的厚度精确控制 还研究了样品的光致发光（ ）特性以及 ()*+ , ()*+ , / 67 激光辐照能量密度对 性质的影响 67 / 关键词：脉冲激光，多层膜，限制结晶 ： ， ， )*++ 8’99 :%8#; !99 退火方法制备5?)*+- *+.! 多层膜在未来器件制造中 引 言 的应用是有限的/ 本研究小组先前已提出了一种新 的方法———超薄 ()*+ 子层的激光诱导限制结晶方 ［］ 纳米硅（ ）材料的制备与性能表征是当今凝 8 5?)*+ 法 ，在室温环境下瞬时完成对超薄()*+ 子层的可 聚态物理与微电子学领域中的研究热点之一，它将 控晶化 本文采用 准分子脉冲激光辐照 ：