《101_Laser-ablation-deposition-of-silicon-nanostructures》.pdfVIP

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2015-10-04 发布于河南
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NanoStructwed Materials. Vol. 12, pp. 101-106, 1999 Pergamon Elsevier Science Ltd 0 1999 Acta Metallurgica Inc. Printed in the USA. All rights reserved 0965-9773l/$-see front matter PI1 SO9659773(99)00074-4 LASER ABLATION DEPOSITION OF SILICON NANOSTRUCTURES J. Levoska, M. Tyunina*, and S. Lepplvuori Microelectronics and Material Physics Laboratories and EMPART Research Group of Infotech Oulu, University of Oulu, PL 444, FIN-90571 Oulu, Finland; *permanent address: Institute of Solid State Physics, University of Latvia, Riga, Latvia Abstract - Pulsed laser deposition with an off-axis geometry in a low-pressure argon ambient was used to produce films of nanosized silicon clusters or crystallites. Size selection was achieved by the distance of the deposit from the target. The local film structure and the crystallite size of the films were studied as a function of the distance from the target using mi- cro-Raman spectroscopy. The nanocrystal size on the off-axis placed s