《Temperature+Control+System+with+Multiclosed+Loops+for+Lithography+Projection+Lens》.pdf

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2015-10-05 发布于河南
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CHINESEJOURNALOFMECHANICALENGINEERING ·207· V01．22，No．2，2009 at online IX)I：10．3901／CJME．2009．02．207，availablewww．ejmeneLeom；WWW．cjmenet．eOlnCll Control withMulti-dosed TemperatureSystem Loops for Lens LithographyProjedion ME HEyan2 Hongfeil，LI Xiaopin91一，and 1 State KeyLaboratoryManufacturingEquipment＆Technology,HuazhongUniversity．． ofDigital and 。 Technology,Wuhan430074，China ofScience 2Tianhua Normal 201815，Chhta College，ShanghaiUniversity，Shanghai Received May27，2008；revisedJanuary8，2009；acceptedJanuary22，2009；publishedelectronicallyFebruary6，2009 isOneofthemost of toolandisaffected Abstract：Imagequality importantspecificationsopticalfithography notablybytemperature， tointroduce vibration．andcontaminationof methodoflocal conffoliseasier vibrationand projectionlens(PL)．Tradifionaltemperature withmulti-closedis tocontrolthe insidethe to contaminatioil。socontrol developed temperaturePL，and temperamresystem loops ilew