《两种新型大功率LED封装电极层的比较》.pdf

( ) 第 8卷第 3期 江 南 大 学 学 报 自 然 科 学 版 Vo l. 8　N o. 3 　 　 　　　　 2009年 6月 Journa l of J ian gnan Un iver sity( Na tura l Sc ien ce Ed it ion) 　 　 　 Jun. 　2009 两种新型大功率 L ED 封装电极层的比较 王耀明 , 　王德苗 , 　苏 达 (浙江大学 信息科学与工程学院 ,浙江 杭州 3 10027) 摘 　要 :为了提高半导体发光二极管封装的可靠性与焊接性能 ,避开传统的电极层陶瓷 / 金属的 ( ) 机械性能匹配问题 ,设计了两种电极层的结构 :一种是多层膜系结构 ,另一种是氧化铟锡 ITO 薄 膜 。研究发现 :多层膜系结构的电阻率为 3 ×10- 6 Ω ·cm ,平均抗拉强度为 4. 22 M Pa,膜层表面缺陷 较少 , 致密性好 ,焊接性能好 ; ITO 薄膜在紫外辐照条件下制备样品的电阻率 、表面形貌和生长取 向明显优于未经紫外辐照的样品 ,在线紫外辐照下最低方阻为 5 Ω, 电阻率为 2. 5 ×10- 4 Ω ·cm ,平 均抗拉强度为 5. 3 M Pa ,表面缺陷少 ,致密度好 ,趋于 [ 222 ] 晶面的择优取向。多层膜系结构的电阻 率明显优于 ITO 薄膜 ,但平均抗拉强度不如 ITO 薄膜 。 关键词 : 大功率 L ED ;多层膜系结构 ;氧化铟锡薄膜 中图分类号 : TN 3 12 文献标识码 : A 文章编号 : 167 1 - 7 147 (2009) 03 - 0300 - 05 C om pa r ison be tween Two E lec trode s for H ighPower L ED Pa cka g in g WAN G Yaom ing, 　WAN G D em iao , 　SU D a (Co llege of Inform ation Sc ience and Engineering, Zhej iang U n iversity, H angzhou 310027 , Ch ina) A b stra c t: In o rder to imp rove L ED ( ligh tem itting d iode) p ackage re liab ility and w e ld ing p erfo rm ance and avo id ing the p rop ertie s m ism atch ing p rob lem , w e p roduced m u ltilayer C r /N iCu /A g and ITO th infilm a s i